我國有了光刻機核心技術(shù)

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我國有了光刻機核心技術(shù)

對于普通人來說，光刻機或許是一個陌生的名詞，但它卻是制造大規(guī)模集成電路的核心裝備，每顆芯片誕生之初，都要經(jīng)過光刻技術(shù)的鍛造。從清華大學(xué)獲悉，國家科技重大專項“光刻機雙工件臺系統(tǒng)樣機研發(fā)”通過驗收，使我國成為少數(shù)能研制光刻機雙工件臺這一超精密機械與測控技術(shù)領(lǐng)域尖端系統(tǒng)的國家之一。

“簡單地說，光刻機就是把工程師的設(shè)計‘印入’基底材料，其核心技術(shù)長期被荷蘭、日本、德國等把持”?！扒擞媱潯睂＜?、從事密碼芯片研發(fā)的九州華興集成電路設(shè)計公司首席科學(xué)家丁丹在接受科技日報記者采訪時說，“我們研發(fā)的芯片投入生產(chǎn)時，130 nm的芯片開模就是120萬元人民幣，而28 nm的芯片開模費用高達上千萬元人民幣”。

據(jù)介紹，為了將設(shè)計圖形制作到硅片上，并在2～3 cm2的方寸之地集成數(shù)十億晶體管，光刻機需達到幾十納米甚至更高的圖像分辨率。而光刻機兩大核心部件之一的工件臺，在高速運動下需達到2 nm（相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑的三萬分之一）的

運動精度。因此光刻機雙工件臺又被稱為“超精密技術(shù)皇冠上的明珠”。

專家組認(rèn)為，歷經(jīng)5年攻關(guān)，研究團隊研制出2套光刻機雙工件臺掩模臺系統(tǒng)樣機，關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)已達到國際同類光刻機雙工件臺水平，并獲得專利授權(quán)122項，為后續(xù)產(chǎn)品研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化打下了堅實基礎(chǔ)。

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（出自：科技日報）