自適應(yīng)紅外隱身背景輻射測(cè)量研究

張冬曉，何永強(qiáng)，胡文剛，耿 達(dá)，元 雄，陳一超

(軍械工程學(xué)院電子與光學(xué)工程系，河北石家莊050003)

1 引言

隨著軍事技術(shù)的高速發(fā)展，之前的靠人眼發(fā)現(xiàn)、瞄準(zhǔn)目標(biāo)的時(shí)代已經(jīng)一去不復(fù)返，各種各樣擴(kuò)展人眼功能的裝備已經(jīng)廣泛地被部隊(duì)采用，其中光學(xué)儀器在裝備中發(fā)揮著不可替代的作用。隨著現(xiàn)代探測(cè)技術(shù)的迅速發(fā)展，如今已經(jīng)可以在距地球數(shù)百公里的太空中獲得高分辨率的光學(xué)圖像，可以說處在地面上的一切物體都被看的一清二楚。當(dāng)把先進(jìn)的探測(cè)技術(shù)用于制導(dǎo)上之后，對(duì)于軍事目標(biāo)的威脅大大的增加，真正地實(shí)現(xiàn)了“發(fā)現(xiàn)即命中”。在各類制導(dǎo)導(dǎo)彈中，使用紅外導(dǎo)引頭作為制導(dǎo)方式的彈藥占了整個(gè)制導(dǎo)導(dǎo)彈的60%以上，所以如何讓己方的裝備脫離紅外探測(cè)器的探測(cè)成為了世界各國共同面臨的難題。一般的裝備都不是靜止不動(dòng)的，而且所處的環(huán)境也在不斷地變化，所以現(xiàn)在需要找到一種方法，能夠使己方的裝備在敵方探測(cè)器中消失且不會(huì)因?yàn)檫\(yùn)動(dòng)或環(huán)境變化而暴露，正是基于這樣一種要求，自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。

2 自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)

自適應(yīng)紅外隱身是指通過控制目標(biāo)的紅外輻射特征，使得目標(biāo)與環(huán)境的紅外輻射相同［1］。由斯忒潘—波爾茲曼定律可知，物體的紅外輻射強(qiáng)度由物體的溫度和發(fā)射率決定，可以通過控制目標(biāo)的發(fā)射率或溫度來改變目標(biāo)的紅外輻射。

目前，有兩種材料可應(yīng)用于自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)，分別是電致變溫材料和電致變發(fā)射率材料［2］。這兩種材料在電場(chǎng)的作用下，自身的溫度或發(fā)射率會(huì)發(fā)生改變，最終使得材料發(fā)射出的紅外輻射強(qiáng)度發(fā)生改變。由于電致變發(fā)射率材料的動(dòng)態(tài)范圍有限，不能適應(yīng)溫度變化較大的環(huán)境［3］，所以一般采用變化范圍較大的電致變溫材料，在得到背景的紅外輻射分布后，可以人為地控制加在材料上的電場(chǎng)，使得目標(biāo)與環(huán)境的紅外輻射相一致。

自適應(yīng)紅外隱身系統(tǒng)的工作模型如圖1所示，系統(tǒng)自身的探測(cè)器實(shí)時(shí)探測(cè)背景的紅外輻射分布，當(dāng)對(duì)方探測(cè)器探測(cè)隱身目標(biāo)時(shí)，實(shí)際是將隱身目標(biāo)投影到了背景上，此時(shí)根據(jù)實(shí)時(shí)探測(cè)到的背景的紅外輻射分布，控制電致變溫材料構(gòu)成的敏感單元在空間x點(diǎn)的紅外輻射光譜分布，使其與目標(biāo)所處環(huán)境在空間x點(diǎn)的紅外輻射光譜分布盡量一致［4］，即是將隱身目標(biāo)遮擋住的那部分背景在隱身裝甲上還原出來。

圖1 隱身系統(tǒng)工作模型Fig.1 The model of the self－adaptive infrared stealth system

2.1 國內(nèi)外研究現(xiàn)狀

在自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)的研究中，國外僅有英國BAE系統(tǒng)公司和以色列埃爾蒂克斯公司(Ahix)研制出了自適應(yīng)紅外隱身系統(tǒng)，并搭載在裝甲車表面進(jìn)行了相關(guān)實(shí)驗(yàn)，但是具體的技術(shù)手段并未公開，對(duì)于國內(nèi)而言仍然處于技術(shù)封鎖的狀態(tài)。而國內(nèi)對(duì)于自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)的研究還處于起步階段，目前并沒有研制出自適應(yīng)紅外隱身系統(tǒng)整機(jī)的相關(guān)報(bào)道，對(duì)自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)的研究主要集中在感溫材料的控制方面，北京航空航天大學(xué)的王宏鵬等人［5］，根據(jù)熱電制冷器件(TEC)的特性，設(shè)計(jì)了一種雙向PID隨動(dòng)溫度控制系統(tǒng)，該系統(tǒng)能夠控制材料的表面溫度在一定的范圍內(nèi)實(shí)時(shí)地跟蹤目標(biāo)的溫度變化。北京理工大學(xué)的張升康等人［6］，利用紅外傳感器、電致變溫材料以及微處理器實(shí)現(xiàn)了簡單的自適應(yīng)紅外隱身，提出了一種產(chǎn)生控制信號(hào)的算法并通過實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了這一系統(tǒng)的可行性，但是實(shí)驗(yàn)中所用陣列較小，背景輻射分布的測(cè)量較為簡單，沒有復(fù)雜的對(duì)應(yīng)關(guān)系，實(shí)現(xiàn)自適應(yīng)隱身相對(duì)簡單，若用于大尺寸的隱身目標(biāo)(如裝甲車等)，效果可能不佳。

由上文分析得到自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)的兩個(gè)關(guān)鍵問題，一是背景輻射的測(cè)量，二是電致變溫材料的控制問題。目前，國內(nèi)對(duì)于電致變溫材料的控制問題已經(jīng)有較為深入成熟的解決方案，但是對(duì)于背景輻射的測(cè)量研究較少，在實(shí)際應(yīng)用中，由于背景的復(fù)雜性，需要得到背景的輻射分布進(jìn)而控制變溫陣列使之具有與背景相同的輻射分布，所以有必要對(duì)背景輻射測(cè)量進(jìn)行深入研究。

2.2 背景輻射測(cè)量原理

變溫陣列的驅(qū)動(dòng)信號(hào)是由背景輻射與隱身目標(biāo)自身的輻射差異給出的，所以對(duì)背景輻射的測(cè)量與處理至關(guān)重要，只有正確地采集到背景輻射分布，才能控制變溫陣列的各像素與背景相應(yīng)點(diǎn)具有相同的紅外輻射。

所謂的背景輻射測(cè)量即是利用紅外成像探測(cè)器將背景的紅外輻射分布以紅外圖像的方式呈現(xiàn)出來，探測(cè)器的輸出計(jì)數(shù)值與入射到探測(cè)器的輻射功率通常用以下模型表示［7］:

式中，K為紅外成像系統(tǒng)的固定參數(shù);C1為常數(shù)項(xiàng)，由紅外圖像的灰度值便可以反演出背景的紅外輻射分布，在實(shí)際的應(yīng)用中，背景輻射測(cè)量存在兩個(gè)技術(shù)難點(diǎn)，一是背景圖像離焦問題，二是探測(cè)器標(biāo)定問題。

3 背景圖像的離焦

在實(shí)現(xiàn)自適應(yīng)紅外隱身的過程中，需要得到隱身目標(biāo)后方的背景輻射分布，而現(xiàn)實(shí)中，背景往往是復(fù)雜多變的，各種景物處于不同的空間深度之中，此時(shí)各景物到探測(cè)器的距離是不同的。

在實(shí)際的測(cè)量過程中，由于背景各個(gè)景物所處的空間深度不同(從幾米到幾千米)，對(duì)于光學(xué)系統(tǒng)來說，不可能使所有的景物都清晰成像，必然有一部分景物處于離焦的狀態(tài)，這就導(dǎo)致了最終的測(cè)量值出現(xiàn)偏差。針對(duì)此問題，提出兩種解決方案，一是利用圖像處理的方法，對(duì)離焦圖像進(jìn)行復(fù)原;二是利用光場(chǎng)相機(jī)獲取完全清晰的背景圖像。

3.1 離焦圖像復(fù)原技術(shù)

圖像復(fù)原理論認(rèn)為，圖像的質(zhì)量下降是由于某些原因造成的圖像退化，若能夠找到這些造成圖像質(zhì)量下降的原因，建立相應(yīng)的退化模型那么便可以恢復(fù)或重建圖像。圖像的離焦是造成圖像模糊的原因之一，目前常用的離焦復(fù)原模型有兩種，分別是圓盤離焦模型和高斯離焦模型，圓盤離焦模型是根據(jù)幾何光學(xué)相關(guān)理論建立的，但未考慮到衍射等因素的影響，是一種較為理想的離焦模型，在實(shí)際應(yīng)用中適用范圍有限，而高斯離焦模型是考慮了眾多因素影響的情況下提出的近似模型［8］，該模型可表示如下:

其中，σ為模型中待求的參數(shù)，與圓盤模型不同，高斯模型中的待求參數(shù)不能通過過零點(diǎn)位置求得，可利用空域中檢測(cè)刃邊函數(shù)曲線的方法求得參數(shù)σ，通過對(duì)式(3)進(jìn)行兩次積分，即可得到刃邊函數(shù)，第一次積分求得線擴(kuò)展函數(shù):

再對(duì)上式進(jìn)行積分即可得到刃邊函數(shù):

由高斯曲線的特點(diǎn)，當(dāng)對(duì)曲線進(jìn)行歸一化后，e(x)=0.84和e(x)=0.16時(shí)，它們?cè)趚軸上的間隔正好為2σ，由此便可求得高斯模型中的參數(shù)σ，代入式(1)中即可得到離焦的點(diǎn)擴(kuò)展函數(shù)h(x，y)，再利用濾波的方法復(fù)原圖像。

國內(nèi)對(duì)離焦模糊圖像復(fù)原技術(shù)進(jìn)行了大量研究，大連理工大學(xué)的張燕妮［9］在研究模糊文字圖像復(fù)原的過程中，提出了利用刃邊函數(shù)曲線直接估算離焦的點(diǎn)擴(kuò)展函數(shù)，提高了點(diǎn)擴(kuò)展函數(shù)的估算精度;武漢理工大學(xué)的胡小平等人［10］提出了基于簡化Wiener濾波的顯微視覺系統(tǒng)中離焦模糊圖像的復(fù)原方法。

但是上述方法仍存在一些問題，若直接用于自適應(yīng)紅外隱身中并不適合，因?yàn)閷?shí)現(xiàn)自適應(yīng)紅外隱身需要獲得復(fù)雜背景的紅外圖像，背景中不同的點(diǎn)可能有不同的空間深度，離焦量是不同的，為此必須在考慮不同景物具有不同離焦量的前提下進(jìn)行離焦圖像復(fù)原，這就要求對(duì)獲取的背景圖像進(jìn)行分割，把不同的景物輪廓分割出來然后分別進(jìn)行復(fù)原處理，而如何獲取景物輪廓以及處于不同空間深度的相鄰景物之間的相互影響將是基于自適應(yīng)紅外隱身的模糊圖像復(fù)原的研究難點(diǎn)所在。

3.2 基于光場(chǎng)相機(jī)的背景輻射測(cè)量

光場(chǎng)成像通過記錄光輻射在傳播過程中的四維位置和方向信息，獲得更加豐富的圖像信息［11］。而利用光場(chǎng)成像所記錄的圖像信息對(duì)照片進(jìn)行數(shù)字重聚焦，由此便可得到整體清晰的圖像。

從光學(xué)的角度看，成像系統(tǒng)的對(duì)焦其實(shí)是將光場(chǎng)在對(duì)焦平面進(jìn)行投影，由于光場(chǎng)相機(jī)已經(jīng)采集到目標(biāo)的四維光場(chǎng)，那么只需要通過計(jì)算的方式改變光場(chǎng)的投影平面便可實(shí)現(xiàn)對(duì)焦［12］。如圖2所示，L(u，s)為探測(cè)器采集到的光場(chǎng)，U、S分別為主透鏡和微透鏡陣列所在平面，兩平面相距l(xiāng)，現(xiàn)在選擇一新的對(duì)焦面S'，與主透鏡平面U相距l(xiāng)'，l'=αl。此時(shí)S'平面上的像為US'之間光場(chǎng)的積分，即:

由于同一條光線 L(u，s)=L'(u，s')，再由圖中的坐標(biāo)關(guān)系得到:

將上式代入式(5)并考慮到:

L(u，s)=L'(u，s')

得:

上式即為投影到新的對(duì)焦面上的成像公式，利用此公式便可以根據(jù)得到的四維光場(chǎng)計(jì)算出不同對(duì)焦面上的成像情況，從而實(shí)現(xiàn)數(shù)字對(duì)焦。

圖2 數(shù)字對(duì)焦原理Fig.2 The principle of digital focus

將光場(chǎng)成像技術(shù)應(yīng)用到自適應(yīng)紅外隱身的背景輻射測(cè)量中，可以解決由于背景的離焦而導(dǎo)致的背景輻射分布測(cè)不準(zhǔn)的問題。但是，仍然存在幾點(diǎn)問題亟待解決，首先就光場(chǎng)成像技術(shù)本身來說，相比于傳統(tǒng)的成像系統(tǒng)，光場(chǎng)成像技術(shù)是以犧牲空間分辨率為代價(jià)來換取四維的光場(chǎng)信息的［12］，所以利用此技術(shù)作為背景輻射的測(cè)量會(huì)存在空間分辨率降低的問題;其次，作為一個(gè)新興的技術(shù)，目前光場(chǎng)相機(jī)主要是對(duì)可見光進(jìn)行成像，當(dāng)應(yīng)用到紅外成像上時(shí)，紅外微透鏡陣列的設(shè)計(jì)將是一大難點(diǎn)。

4 探測(cè)器的標(biāo)定

探測(cè)器標(biāo)定的目的是為了得到輸出的紅外圖像灰度與探測(cè)器接收到的紅外輻射之間的對(duì)應(yīng)關(guān)系，前文介紹了探測(cè)器標(biāo)定的理想模型，而在實(shí)際的工作過程中，由于環(huán)境溫度、濕度以及探測(cè)器內(nèi)部的噪聲影響，實(shí)際的對(duì)應(yīng)關(guān)系會(huì)偏離理想模型，目前一般的解決辦法是用標(biāo)準(zhǔn)黑體對(duì)探測(cè)器進(jìn)行紅外輻射定標(biāo)，針對(duì)標(biāo)準(zhǔn)黑體的紅外輻射定標(biāo)，已有大量的研究，各種標(biāo)定方法已日趨成熟，如西安工業(yè)學(xué)院的劉纏牢等［13］將BP神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)用于熱像儀的紅外輻射標(biāo)定，大大提高了熱像儀的標(biāo)定精度。但是紅外輻射的標(biāo)定精度受環(huán)境影響很大，而戰(zhàn)場(chǎng)環(huán)境又復(fù)雜多變，倘若環(huán)境一改變便進(jìn)行輻射定標(biāo)必將費(fèi)時(shí)費(fèi)力，并且可能延誤戰(zhàn)機(jī)，而要想建立一個(gè)適用于各種環(huán)境的定標(biāo)模型必將引入大量的參數(shù)，使模型過于龐大，并且某些參數(shù)還難以控制。

換一種思路考慮，通過研究紅外探測(cè)器發(fā)現(xiàn)目標(biāo)時(shí)所要求的目標(biāo)與環(huán)境之間的溫差，以此溫差作為自適應(yīng)紅外隱身系統(tǒng)的誤差范圍，認(rèn)為在此誤差范圍內(nèi)可以有效隱身，這樣有了一定的誤差容限將大大地減小模型的復(fù)雜程度。紅外成像系統(tǒng)的Pd－R(探測(cè)概率－探測(cè)距離)模型描述了在一定的溫差(ΔT)下，熱成像系統(tǒng)的探測(cè)概率與目標(biāo)和系統(tǒng)之間距離的關(guān)系［14］。該模型的建立過程如圖3所示，目標(biāo)與背景的溫差ΔT0經(jīng)大氣傳輸后到達(dá)成像系統(tǒng)的光瞳處，此時(shí)溫差由于大氣衰減變?yōu)棣=tΔT0，由系統(tǒng)的最小可分辨溫差(MRTD)曲線可求出在此溫差下的空間分辨率，在實(shí)際應(yīng)用MRTD曲線時(shí)，需要對(duì)實(shí)驗(yàn)室測(cè)得的MRTD曲線進(jìn)行修正，實(shí)際的MTRD為:

當(dāng)求出此溫差下的系統(tǒng)極限分辨率fx'后，計(jì)算當(dāng)前空間分辨率下由約翰遜準(zhǔn)則定義的線對(duì)數(shù):

式中，H為目標(biāo)高度;R為目標(biāo)到成像系統(tǒng)的距離。

最后，由約翰遜準(zhǔn)則可求得當(dāng)前線對(duì)數(shù)下，對(duì)于目標(biāo)的探測(cè)概率。至此，Pd－R模型便建立完畢。

圖3 Pd－R模型Fig.3 The model of Pd－R

將上述模型進(jìn)行反向推導(dǎo)，即在某一探測(cè)概率和探測(cè)距離下，由約翰遜準(zhǔn)則求出線對(duì)數(shù)n0，根據(jù)式(9)求出相應(yīng)的空間分辨率，再由MRTD曲線得到當(dāng)前的溫差，由此便可以得到不同探測(cè)距離不同探測(cè)概率下目標(biāo)的溫差值，以此溫差值作為誤差范圍。當(dāng)啟動(dòng)自適應(yīng)紅外隱身系統(tǒng)使目標(biāo)隱身時(shí)，只要當(dāng)前隱身目標(biāo)與背景的測(cè)量溫差與實(shí)際溫差的差值在誤差范圍內(nèi)時(shí)，便可以實(shí)現(xiàn)有效隱身。

5 結(jié)論及展望

傳統(tǒng)的紅外隱身技術(shù)由于環(huán)境適應(yīng)性差、不能實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)隱身等缺點(diǎn)已經(jīng)不足以為裝備提供良好的偽裝保護(hù)，而自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)能夠使武器裝備隨著環(huán)境的變化而改變自身的紅外輻射特性，實(shí)現(xiàn)動(dòng)態(tài)隱身。在偵察與制導(dǎo)技術(shù)越來越完善，同時(shí)探測(cè)精度也越來越高的今天，自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)必將成為武器裝備新的保護(hù)傘。本文在分析自適應(yīng)紅外隱身原理的基礎(chǔ)上，提出了自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)存在的幾個(gè)關(guān)鍵技術(shù)問題，并且針對(duì)自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)的特點(diǎn)，提出了解決問題的方法。但是，自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)在國內(nèi)還處于起步階段，隨著研究的深入，會(huì)有越來越多的問題出現(xiàn)，從目前國內(nèi)外的研究現(xiàn)狀來看，自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)的發(fā)展主要會(huì)受到以下幾個(gè)方面的制約:

(1)隱身材料。從目前的發(fā)展?fàn)顩r看，材料仍然是制約隱身技術(shù)發(fā)展的重要原因之一，材料的種類不夠多、可控性較差、靈敏度不佳等，都影響了自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)的發(fā)展，要想取得突破，必須找到更容易控制，能更快速地響應(yīng)溫度變化的材料。

(2)控制技術(shù)。自適應(yīng)隱身技術(shù)要求通過控制材料的某些特征，使材料能夠作出與背景輻射同步的變化，而發(fā)展新的控制技術(shù)，提高控制的精度將會(huì)使材料的隱身效果更好。

(3)傳感器技術(shù)。在對(duì)背景輻射信息進(jìn)行采集時(shí)，要求傳感器具有足夠的靈敏度，能快速獲取環(huán)境中的各種信息，并且能夠感應(yīng)多種環(huán)境信息。因此，今后必然要大力發(fā)展諸如分布式傳感器和多傳感器等能滿足特殊隱身需求的新傳感器。

除了上述幾個(gè)方面以外，隨著偵查手段的日益多樣化，軍用裝備在戰(zhàn)場(chǎng)上可能同時(shí)面臨可見光、紅外和微波等多波段偵查設(shè)備的威脅，因此必須研發(fā)能夠同時(shí)對(duì)抗多種儀器、探測(cè)多波段兼容的隱身技術(shù)。這就要求找到更適合的材料，能夠同時(shí)對(duì)多種波段的電磁波進(jìn)行吸收或者散射，并且能夠控制這些可探測(cè)特征。

［1］ LI Peiqing，TIAN Ying，CAO Jiafeng，et al.Research progress of adaptive infrared stealth technology［J］.Transducer and Microsystem Technologies，2013，32(10):5－8.(in Chinese)李佩青，田英，曹嘉峰，等.自適應(yīng)紅外隱身技術(shù)研究進(jìn)展［J］.傳感器與微系統(tǒng)，2013，32(10):5－8.

［2］ L Xiangyin，LING Yongshun，LI Yubo，et al.Discussion of the ground maneuver target’s infrared camouflage technology［J］.Laser＆ Infrared，2006，36(9):893－896.(in Chinese)呂相銀，凌永順，李玉波，等.地面機(jī)動(dòng)目標(biāo)的紅外偽裝技術(shù)探討［J］.激光與紅外，2006，36(9):893－896.

［3］ LIU Dongqing，CHENG Haifeng，et al.Application of variable infrared－emissivity materials to spacecraft thermal control［J］.Journal of National University of Defense Technology，2012，34(2):145－149.(in Chinese)劉東青，程海峰，等.紅外發(fā)射率可變材料在航天器熱控技術(shù)中的應(yīng)用［J］.國防科技大學(xué)學(xué)報(bào)，2012，34(2):145－149.

［4］ FENG Yunsong，LU Yuan，F(xiàn)AN Bin，et al.Realization and analysis of a dynam ic infrared stealth technique［J］.Laser＆ Infrared，2007，37(6):558－560.(in Chinese)馮云松，路遠(yuǎn)，范彬，等.一種動(dòng)態(tài)紅外隱身技術(shù)的實(shí)現(xiàn)與分析［J］，激光與紅外，2007，37(6):558－560.

［5］ WANG Hongpeng，WANG Xiaoqun，et al.Control design of surface temperature adaptive material system［J］.Microcomputer Information，2007，23(7):1－3.(in Chinese)王宏鵬，王小群，等.表面自適應(yīng)變溫材料系統(tǒng)中的控制設(shè)計(jì)［J］.微計(jì)算機(jī)信息，2007，23(7):1－3.

［6］ ZHANG Shengkang，CHEN Zhong，et al.Development of smart material system of infrared camouflage［J］.Surface Technology，2004，33(1):63－65.(in Chinese)張升康，陳重，等.表面控溫紅外智能隱身材料系統(tǒng)的研制［J］.表面技術(shù)，2004，33(1):63－64.

［7］ SUN Xuejun，LIU Jian，et al.Radiometric calibration model of uncooled infrared focal plane array［J］.Journal of PLA University of Science and Technology:Natural Science Edition，2008，9(4):399－403.(in Chinese)孫學(xué)軍，劉劍，等.非制冷紅外焦平面陣列的輻射定標(biāo)模型［J］.解放軍理工大學(xué)學(xué)報(bào):自然科學(xué)版，2008，9(4):399－403.

［8］ WANG Jinglin，LI Junshan.An enhanced defocusing model［J］.Journal of Heilongjiang Institute of Science ＆Technology，2013，23(6):567－570.(in Chinese)王婧林，李俊山.一種改進(jìn)的離焦模型［J］.黑龍江科技學(xué)院學(xué)報(bào)，2013，23(6):567－570.

［9］ ZHANG Yanni.Study on restoration method of the defocused Image［D］.Dalian:Dalian University of Technology，2005.(in Chinese)張燕妮.離焦模糊圖像復(fù)原方法的研究［D］.大連:大連理工大學(xué)，2005.

［10］ HU Xiaoping，YIN Xiyun，et al.Adaptive filtering and counter filter restoration for defocus blurred image［J］.Opto－Electronic Engineering，2007，34(4):105－108.(in Chinese)胡小平，尹喜云，等.離焦模糊圖像的自適應(yīng)濾波及逆濾波器復(fù)原［J］.光電工程，2007，34(4):105－108.

［11］ NIE Yunfeng，XIANG Libin，et al.Advances in light field photography technique［J］.Journal of Graduate University of Chinese Academy of Sciences，2011，28(5):563－572.(in Chinese)聶云峰，相里斌，等.光場(chǎng)成像技術(shù)進(jìn)展［J］.中國科學(xué)院研究生院學(xué)報(bào)，2011，28(5):563－572.

［12］ ZHOU Zhiliang.Research on light field Imaging technology［D］.Hefei:University of Science and Technology of China，2012.(in Chinese)周志良.光場(chǎng)成像技術(shù)研究［D］.合肥:中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)，2012.

［13］ LIU Chanlao，TAN Lixun，et al.The demarcating method of infrared measuring temperature system on the BP neural network［J］.Laser ＆ Infrared，2006，36(8):655－667.(in Chinese)劉纏牢，譚立勛，等.基于BP神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的紅外測(cè)溫系統(tǒng)溫度標(biāo)定方法［J］.激光與紅外，2006，36(8):655－667.

［14］ XUAN Yimin，HAN Yuge.Infrared characterizations of ground targets and backgrounds［M］.Beijing:National Defence Industry Press，2004.(in Chinese)宣益民，韓玉閣.地面目標(biāo)與背景的紅外特征［M］.北京:國防工業(yè)出版社，2004.