胥桂萍,邱 黎
(江漢大學(xué) 光電化學(xué)材料與器件教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,化學(xué)與環(huán)境工程學(xué)院,湖北 武漢 430056)
納米氧化亞銅薄膜的制備及光電性能研究
胥桂萍,邱 黎
(江漢大學(xué) 光電化學(xué)材料與器件教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,化學(xué)與環(huán)境工程學(xué)院,湖北 武漢 430056)
采用水熱法制備n型和p型Cu2O薄膜,并采用電化學(xué)法制備p型Cu2O薄膜。通過X-射線衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)等方法對Cu2O薄膜進(jìn)行表征,研究了p型Cu2O薄膜的光電性能。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:在弱酸性溶液中,用水熱法制備的Cu2O薄膜導(dǎo)電類型為n型;在堿性溶液中,Cu2O薄膜導(dǎo)電類型為p型;電化學(xué)法制備的p型Cu2O為立方型晶體。
納米氧化亞銅薄膜;水熱法;電化學(xué)法;光電性能
納米氧化亞銅(Cu2O)是新型的可被可見光激發(fā)的p型半導(dǎo)體材料,Cu2O薄膜比Cu2O粉體在電學(xué)和光學(xué)屬性方面表現(xiàn)更好,然而到目前為止,人們對粉末狀Cu2O的研究卻比薄膜Cu2O的研究多得多。
筆者對Cu2O的研究主要集中在光電應(yīng)用方面,Cu2O材料的形貌和晶體結(jié)構(gòu)對其光電性質(zhì)影響很大,因此制備各種形貌的Cu2O材料具有重要的意義。已報(bào)道的制備方法有化學(xué)沉積法[1]、溶膠凝膠法[2]、水熱法[3]、反應(yīng)濺射法[4]、多元醇法[5]、微乳法[6]、電化學(xué)法[7-8]等,其中電化學(xué)法對納米Cu2O晶型有較強(qiáng)選擇性,可通過電流、電壓等條件控制其形態(tài)、尺寸。
本研究采用水熱法以乙酸銅為原料,在不同pH值下制備Cu2O薄膜。采用電化學(xué)法以硫酸銅和乳酸的混合液為電解液在堿性條件下制備Cu2O薄膜。通過掃描電子顯微鏡(SEM),X-射線衍射(XRD)等方法對所制備樣品結(jié)構(gòu)和形貌進(jìn)行分析;通過開路電壓測試方法對樣品的光電性能進(jìn)行表征。
1.1 實(shí)驗(yàn)藥品及儀器
主要試劑有:乙酸銅,乳酸,氫氧化鈉,氯化鉀,碳酸氫鉀,硫酸鈉,鹽酸,氨水,醋酸,苯并三唑,無水乙醇,丙酮,銅片(純度99.98%)。
主要儀器有:85-1恒溫磁力攪拌器,常州國華電器有限公司;BS200S-WEI型電子分析天平,北京賽多利斯天平有限公司;XQ350W氙燈,上海藍(lán)晟電子有限公司;RAR2273電化學(xué)工作站,美國普林斯頓公司;SB-5200D超聲波清洗器,寧波新芝生物科技股份有限公司;DZF-1型(6050B)真空干燥箱,上海?,攲?shí)驗(yàn)設(shè)備有限公司;GC-2014氣相色譜儀,日本島津;Y-2000型X-射線衍射儀(XRD);JOEL-6700F型掃描電子顯微鏡(SEM)。
1.2 水熱法制備n型和p型納米Cu2O薄膜
1.2.1 銅片基底的清洗 將銅片修剪成2 cm×6 cm大小,先用濃鹽酸浸泡30 min,取出并用大量清水沖洗,再用二次去離子水沖洗。依次浸泡在蒸餾水、丙酮、無水乙醇中各以超聲波清洗10 min。取出后用電吹風(fēng)吹干備用。
1.2.2 制備 將處理后的銅片分別浸沒到盛有60 mL的10-3M醋酸銅水溶液的高壓釜中,用醋酸和氨水調(diào)節(jié)pH值,使得pH值依次為4、5、9、10、11,高壓釜的反應(yīng)溫度為160℃,反應(yīng)時間為8 h。
1.3 電化學(xué)法制備納米Cu2O薄膜
1.3.1 銅片基底的清洗 清洗方法同1.2.1。
1.3.2 制備 取0.4 M CuSO4+3 M乳酸60 mL于100 mL燒杯,用4 M NaOH調(diào)節(jié)pH值,使得pH值依次為9、10、12,配得電解液。在燒杯上蓋一個硬紙片,分別將處理好的銅片、鉑電極、Ag/AgCl飽和KCl電極固定在紙片上。將三電極連接RAR2273電化學(xué)工作站,加熱電解液使溫度升至60℃開始電解,反應(yīng)時間為1 h,控制電壓為-0.1 V。待反應(yīng)完畢后,取出銅片,用蒸餾水洗滌。干燥后放入質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1‰的乙醇苯丙三唑(BTA)中浸泡2 h,取出后干燥待用。
1.4 樣品的表征
用Y-2000型X-射線衍射儀(XRD)對樣品進(jìn)行成分分析;用JOEL-6700F型掃描電子顯微鏡(SEM)觀測所制樣品的整體形貌;用電化學(xué)工作站RAR 2273對樣品的電化學(xué)性能進(jìn)行測試,測試過程中采用三電極工作體系:以制備的Cu/Cu2O薄膜樣品作為工作電極,以Pt為對電極,以參比電極為Ag/AgCl飽和KCl電極,以0.1 M的Na2SO4溶液作為電解液。
2.1 XRD分析
圖1~圖4是以水熱法和電化學(xué)法在不同pH值時制備Cu2O薄膜的XRD圖譜。由于制備Cu2O薄膜時以銅片為基底,在其表面只附著很薄的一層Cu2O薄膜,因此XRD圖譜中金屬銅的峰很強(qiáng),Cu2O的峰基本上被掩蓋,分析圖1到圖3中2θ值為43.05°、50.45°和73.46°處的衍射峰分別對應(yīng)于金屬銅的(220)、(200)和(311)晶面,而在29.78°、36.56°、42.39°和62.51°處的微弱衍射峰則對應(yīng)于立方晶型Cu2O的(110)、(111)、(200)和(220)晶面。對于水熱法的XRD圖,圖2中Cu2O在(110)和(200)晶面衍射峰消失,說明溶液的酸堿性可以影響Cu2O的取向度??梢耘袛啵捎盟疅岱ù_實(shí)在Cu基底表面得到了一層Cu2O薄膜。在酸性條件下Cu2O薄膜生長情況較好,在強(qiáng)堿性條件下較難生成Cu2O薄膜。比較圖2和圖3可知,用電化學(xué)法制備的Cu2O薄膜在立方晶型Cu2O的(110)、(111)和(220)晶面生長情況較好。
圖1 水熱法制備Cu2O薄膜的XDR圖譜(pH=5)Fig.1 XRD pattern of Cu2O film prepared with hydrothermal method with pH=5
圖2 水熱法制備Cu2O薄膜的XRD圖譜(pH=10)Fig.2 XRD pattern of Cu2O film prepared with hydrothermal method with pH=10
圖3 電化學(xué)法制備Cu2O薄膜的XDR圖譜(pH=10)Fig.3 XRD pattern of Cu2O film prepared with electrochemical method with pH=10
圖4 電化學(xué)法制備Cu2O薄膜的XDR圖譜(pH=12)Fig.4 XRD pattern of Cu2O film prepared with electrochemical method with pH=12
圖5和圖6是以水熱法在不同pH值時制備Cu2O薄膜的SEM圖譜。從圖5和圖6可看出,在酸性條件下制備的Cu2O薄膜由不規(guī)則粒狀結(jié)構(gòu)組成,粒子表面粗糙;在堿性條件下制備的Cu2O薄膜由立方體結(jié)構(gòu)組成,粒子表面光滑平整。
圖7和圖8是以電化學(xué)法在不同pH值時制備Cu2O薄膜的SEM圖譜。從圖7和圖8可看出,電化學(xué)法制備的Cu2O薄膜是立方體結(jié)構(gòu),且pH值越大得到的Cu2O薄膜表面納米結(jié)構(gòu)越精細(xì),棱面越完整,其尺寸更加細(xì)小。
2.2 兩種Cu2O薄膜的p型和n型特性表征
由于Cu2O是一種非理想配比的具有內(nèi)部缺陷的半導(dǎo)體氧化物,通常是通過脈沖光開啟瞬間電極電勢突變的方向來判斷半導(dǎo)體的類型。在酸性環(huán)境下,溶液中Cu+濃度較高而OH-的濃度很低,可能生成銅和氧的原子配比大于2(理想配比為2∶1)的具有氧缺陷的n型半導(dǎo)體Cu2O。在堿性環(huán)境下,溶液中的OH-濃度相對較大,可能生成銅和氧的原子配比小于2的具有銅缺陷的p型半導(dǎo)體Cu2O。
圖9和圖10是n型和p型Cu2O薄膜在脈沖可見光照射下的開路光電壓曲線圖。由圖9可知,在脈沖光開啟的瞬間,酸性環(huán)境下制得的Cu2O薄膜的電勢向較低電位方向突變,產(chǎn)生一個負(fù)偏壓,呈現(xiàn)了n型半導(dǎo)體的特性。由圖10可知,在脈沖光開啟的瞬間,堿性環(huán)境下制備的Cu2O薄膜的電勢向較高電位方向突變,產(chǎn)生一個正偏壓,體現(xiàn)了p型半導(dǎo)體的特性。由此可見,采用水熱法制備Cu2O薄膜在酸性條件下生成了n型半導(dǎo)體Cu2O,在堿性條件下生成了p型半導(dǎo)體Cu2O。
圖5 水熱法制備Cu2O薄膜的SEM圖譜(pH=5)Fig.5 SEM image of Cu2O film prepared with hydrothermal method with pH=5
圖6 水熱法制備Cu2O薄膜的SEM圖譜(pH=10)Fig.6 SEM image of Cu2O film prepared with hydrothermal method with pH=10
圖7 電化學(xué)法制備Cu2O薄膜的SEM圖譜(pH=10)Fig.7 SEM image of Cu2O film prepared with electrochemical method with pH=10
圖8 電化學(xué)法制備Cu2O薄膜的SEM圖譜(pH=12)Fig.8 SEM image of Cu2O film prepared with electrochemical method with pH=12
圖9 水熱法制備Cu2O薄膜的開路光電壓曲線圖(pH=4)Fig.9 Curve of open circuit photovoltage of Cu2O film prepared with hydrothermal method pH=4
圖10 水熱法制備Cu2O薄膜的開路光電壓曲線圖(pH=9)Fig.10 Curve of open circuit photovoltage of Cu2O film prepared with hydrothermal method pH=9
采用水熱法在不同pH環(huán)境下制備Cu2O薄膜,并對其進(jìn)行XRD和SEM分析及開路電路測試光電壓。酸性條件下生成的Cu2O為n型,堿性條件下生成的為p型半導(dǎo)體。采用電化學(xué)法在堿性條件下分別控制電流和電壓制備Cu2O薄膜,電化學(xué)法制備的Cu2O薄膜是立方體結(jié)構(gòu),且pH值越大得到的Cu2O薄膜表面納米結(jié)構(gòu)更加精細(xì),棱面更加完整,尺寸更加細(xì)小。
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(責(zé)任編輯:葉 冰)
Preparation of Nano-Cuprous Oxide Film and Its Photoelectric Properties
XU Guiping,QIU Li
(Key Laboratory of Optoelectronic Chemical Materials and Devices,Ministry of Education,School of Chemistry and Environmental Engineering,Jianghan University,Wuhan 430056,Hubei,China)
The n-type and p-type Cu2O films were prepared with hydrothermal method and p-type Cu2O films were prepared with electrochemical method.With X-ray diffraction(XRD),scanning electron microscopy(SEM)and other tests,these p-type Cu2O thin films were characterized and studied in photoelectric properties.The experimental results showed that:in weak acid solution,the conductivitive Cu2O films prepared by hydrothermal were n-type,in alkaline solution,the films were p-type;while the conductivitive Cu2O films prepared by electrochemical method were p-type which were cubic crystal.
nano-cuprous oxide film;hydrothermal method;electrochemical method;photoelectric properties
O484
:A
:1673-0143(2015)06-0485-05
10.16389/j.cnki.cn42-1737/n.2015.06.001
2015-09-17
湖北省教育廳科學(xué)技術(shù)研究計(jì)劃指導(dǎo)性項(xiàng)目(B20123407)
胥桂萍(1968—),女,副教授,碩士,研究方向:化工及環(huán)保領(lǐng)域基礎(chǔ)與應(yīng)用。