王月玲,黃旭東
(中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第58研究所,江蘇 無(wú)錫 214035)
集成電路在實(shí)際應(yīng)用中,經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)工作異常甚至失效的情況。當(dāng)電路發(fā)生失效時(shí),需要采用各種手段盡快定位問(wèn)題所在,隨后在本地復(fù)現(xiàn)相關(guān)現(xiàn)象,明確問(wèn)題原因,進(jìn)而提出針對(duì)性的解決方案。本文介紹了一款數(shù)字信號(hào)處理器電路的失效分析過(guò)程,對(duì)于相關(guān)集成電路的失效分析具有一定的參考價(jià)值和借鑒意義。
失效芯片是一款高性能32位定點(diǎn)數(shù)字信號(hào)處理器,電路規(guī)模大約100萬(wàn)門,采用0.18 μm工藝制造,端口電壓3.3 V,內(nèi)核電壓1.8 V。端口間插入去耦電容以提升電路的ESD性能。
用戶反饋,該DSP電路在使用時(shí),在兩種不同的供電方式下,電路工作狀態(tài)出現(xiàn)不同。用戶的基本應(yīng)用框圖如圖1所示。電源與電路板之間接有開(kāi)關(guān)S1,電路板上有三個(gè)電源電路LDO1、LDO2、LDO3。其中LDO1、LDO2實(shí)現(xiàn)5 V轉(zhuǎn)3.3 V,LDO3實(shí)現(xiàn)5 V轉(zhuǎn)1.8 V。應(yīng)用板上U1為DSP電路,其他三個(gè)器件U2、U3、U4分別連接至U1的IO口及總線上,LDO1為U1的端口及U2提供3.3 V的電源,LDO2為U3及U4供電,LDO3為U1的內(nèi)核部分提供1.8 V電源。
用戶采用以下兩種方式供電,方式1:開(kāi)關(guān)S1保持常開(kāi),通過(guò)電源上下電,電路板工作正常。供電方式2:電源一直開(kāi)啟,通過(guò)閉合開(kāi)關(guān)S1進(jìn)行上電控制,這時(shí)電路板工作異常,U1發(fā)熱,電源電流翻倍,從原來(lái)的520 mA增大至1.2 A。
圖1 用戶線路板供電示意圖
現(xiàn)場(chǎng)通過(guò)示波器監(jiān)控發(fā)現(xiàn),LDO2的3.3 V輸出較LDO1的3.3 V輸出早300 μs左右。LDO2是給U1電路的外圍電路U3、U4供電,外圍電路如果先于DSP上電,將出現(xiàn)先有信號(hào)后上電的情況。從故障現(xiàn)象以及我們以往的經(jīng)驗(yàn),懷疑是否因?yàn)樯想婍樞蛟斐蒁SP電路內(nèi)部某些結(jié)構(gòu)觸發(fā),從而形成電流通路,造成電流瞬間變大。我們?cè)诂F(xiàn)場(chǎng)將LDO2拆掉,按照供電方式2再次上電,雖然系統(tǒng)功能失去了,但是電流恢復(fù)正常,電路發(fā)熱現(xiàn)象消失,初步證實(shí)電流變大和電路上電順序存在關(guān)系。
上電先后順序會(huì)造成系統(tǒng)板上電流突然變大,從而影響電路正常工作,我們懷疑是DSP電路端口出現(xiàn)閂鎖,因此進(jìn)行了進(jìn)一步的失效分析。
根據(jù)在用戶現(xiàn)場(chǎng)的試驗(yàn)分析,我們懷疑失效DSP電路的端口出現(xiàn)閂鎖,首先制定了針對(duì)該電路端口特點(diǎn)的Latch-up試驗(yàn)方案,接著又從應(yīng)用角度對(duì)該現(xiàn)象進(jìn)行復(fù)現(xiàn),借助EMMI設(shè)備協(xié)助定位故障點(diǎn),并結(jié)合理論,對(duì)該現(xiàn)象產(chǎn)生的合理性進(jìn)行了分析,定位了失效點(diǎn),并最終確定合理的改版方案。
組織了三個(gè)同批次的DSPFXXXX電路進(jìn)行了Latch-up試驗(yàn),試驗(yàn)時(shí)為了確定所有端口的狀態(tài),在片內(nèi) fl ash中固化了程序,使得數(shù)據(jù)總線接口始終為輸入態(tài),地址總線為輸出態(tài),其他I/O口為輸入態(tài)。為了使程序能夠正常運(yùn)行,增加了相應(yīng)的復(fù)位電路以及時(shí)鐘電路。試驗(yàn)對(duì)三個(gè)批次中選取了三顆電路,編號(hào)為1#、2#、3#,表1為 Latch-up試驗(yàn)結(jié)果統(tǒng)計(jì)。
從試驗(yàn)的數(shù)據(jù)來(lái)看,該電路在100 mA即發(fā)生閂鎖,表明該電路的抗Latch-up能力在100 mA以下,端口很容易觸發(fā)。這使得電路在測(cè)試和使用過(guò)程中,一旦器件引出端(包括輸入端、輸出端和電源端)受到外部電壓和電流信號(hào)的觸發(fā),VDD和VSS之間就會(huì)出現(xiàn)很大的導(dǎo)通電流。該電流一旦開(kāi)始流動(dòng),即使除去外來(lái)觸發(fā)信號(hào)也不會(huì)中斷,而且這個(gè)電流可增大到使器件內(nèi)部電路或地的金屬布線熔斷,器件徹底燒毀。這就進(jìn)一步說(shuō)明用戶在使用過(guò)程中由于上電順序改變,很容易就觸發(fā)內(nèi)部的寄生結(jié)構(gòu),從而出現(xiàn)電流異常,影響用戶正常使用。需要進(jìn)一步的試驗(yàn)手段來(lái)找到觸發(fā)結(jié)構(gòu),分析故障機(jī)理。
表1 Latch-up實(shí)驗(yàn)結(jié)果統(tǒng)計(jì)
EMMI即微光顯微鏡,借助EMMI是目前在進(jìn)行電路的失效分析時(shí)一種相當(dāng)有效且效率較高的分析手段,可偵測(cè)到IC內(nèi)部所放出的光子。在IC器件中,EHP(Electron Hole Pairs)會(huì)放出光子,部分情況會(huì)產(chǎn)生亮點(diǎn)。產(chǎn)生亮點(diǎn)的情況有漏電結(jié)、接觸毛刺、閂鎖效應(yīng)、氧化層漏電等。
為了借助EMMI實(shí)驗(yàn)定位故障點(diǎn),必須在觸發(fā)閂鎖的同時(shí)進(jìn)行EMMI實(shí)驗(yàn),但是在使用Latch-up設(shè)備觸發(fā)電路發(fā)生閂鎖的同時(shí)借助EMMI設(shè)備觀測(cè)發(fā)光點(diǎn)是不可能的,因此必須找到其他方法使電路觸發(fā),并且必須是逐個(gè)點(diǎn)進(jìn)行觸發(fā)。分析過(guò)程中制定了如圖2所示的模擬實(shí)驗(yàn)方案,使用雙路電源(電源1和電源2)為DSP電路的3.3 V端口和1.8 V內(nèi)核供電,電源3作為觸發(fā)源施加于不同的IO端口。試驗(yàn)過(guò)程中,逐步抬升觸發(fā)源的電壓水平,同時(shí)監(jiān)測(cè)雙路電源中電源1的電流變化情況,如果電流突然變大,說(shuō)明電路進(jìn)入觸發(fā)狀態(tài),關(guān)閉電源3即撤掉觸發(fā)源,此時(shí)如果電源1的電流值維持不變,表明電路內(nèi)部的寄生結(jié)構(gòu)觸發(fā)且進(jìn)入閂鎖狀態(tài)。實(shí)驗(yàn)現(xiàn)場(chǎng)如圖3所示。
通過(guò)EMMI試驗(yàn)設(shè)備我們發(fā)現(xiàn)芯片內(nèi)部亮點(diǎn),這有可能是閂鎖發(fā)生的部位或者是受到閂鎖結(jié)構(gòu)影響引起電流異常的區(qū)域,如圖4所示。下一步的分析應(yīng)從亮點(diǎn)著手,從版圖上了解發(fā)亮部位的結(jié)構(gòu),從結(jié)構(gòu)和機(jī)理上來(lái)判斷此結(jié)構(gòu)是否具備閂鎖發(fā)生的條件。
圖2 Latch-up模擬實(shí)驗(yàn)方案
圖3 Latch-up模擬實(shí)驗(yàn)現(xiàn)場(chǎng)照片
圖4 EMMI實(shí)驗(yàn)照片
對(duì)EMMI數(shù)據(jù)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)發(fā)現(xiàn),在EMMI照片上出現(xiàn)亮點(diǎn)的區(qū)域存在一去耦結(jié)構(gòu),如圖5所示為版圖上的去耦結(jié)構(gòu),是否是該結(jié)構(gòu)引發(fā)閂鎖??jī)H從EMMI照片的發(fā)亮點(diǎn)還不能完全確定,失效區(qū)域發(fā)亮的原因是電流密度足夠高,在失效區(qū)產(chǎn)生電壓降。這一電壓降導(dǎo)致發(fā)光顯微鏡光譜區(qū)內(nèi)的場(chǎng)加速載流子散射發(fā)光,但發(fā)光點(diǎn)存在不穩(wěn)定,有時(shí)真正的失效區(qū)由于局部電流過(guò)高將其熔化,擊穿區(qū)擴(kuò)大使電流密度下降,而不一定發(fā)亮。又對(duì)Latch-up的試驗(yàn)數(shù)據(jù)進(jìn)行了分析,發(fā)現(xiàn)性能偏弱的端口在版圖上都和去耦電容相鄰,并且端口的抗閂鎖能力和去耦電容的距離存在一定的關(guān)系,距離小的端口最先出現(xiàn)觸發(fā),隨著距離增大,端口的抗閂鎖能力有所抬高,大約在150~200 mA之間觸發(fā)。從EMMI的現(xiàn)象和Latch-up的試驗(yàn)數(shù)據(jù)來(lái)分析,可基本確定端口的抗閂鎖能力偏低和相鄰的去耦電容存在關(guān)系。下一步將著手從器件的縱向結(jié)構(gòu)和觸發(fā)機(jī)理來(lái)查找失效原因。
如圖6為去耦電容和相鄰端口驅(qū)動(dòng)管P管的縱向剖面圖。該電容為濾波電容常用的一種版圖結(jié)構(gòu),由阱和多晶構(gòu)成兩個(gè)極板,當(dāng)去耦電容擺放在兩個(gè)端口之間時(shí),和端口的驅(qū)動(dòng)P管就形成了容易觸發(fā)的PNPN結(jié)構(gòu),在結(jié)構(gòu)上具備了閂鎖發(fā)生的條件。版圖上該去耦電容也和驅(qū)動(dòng)管N管相鄰,但并不構(gòu)成PNPN結(jié)構(gòu),也就是說(shuō),去耦電容和大尺寸的驅(qū)動(dòng)管P管是真正的故障點(diǎn)。圖7為故障點(diǎn)等效電路圖。
圖5 EMMI實(shí)驗(yàn)亮點(diǎn)對(duì)應(yīng)版圖位置
在分析中我們還發(fā)現(xiàn)去耦電容的阱和驅(qū)動(dòng)P管的阱之間的距離對(duì)端口的可靠性有著一定的影響,當(dāng)兩個(gè)阱之間的距離足夠大時(shí),觸發(fā)也不容易發(fā)生,表現(xiàn)在端口的抗Latch-up能力可達(dá)到150 mA以上。但是在實(shí)際設(shè)計(jì)中,受版圖布局和芯片面積的限制,我們不可能將這個(gè)距離放至足夠大,因此最好從結(jié)構(gòu)上摒棄這樣的設(shè)計(jì)。
從上述分析中得出如下結(jié)論:在這款DSP電路中,由于去耦電容與端口的某些結(jié)構(gòu)距離過(guò)近,正好形成了易觸發(fā)Latch-up的PNPN結(jié)構(gòu),從而導(dǎo)致電路在使用中容易閂鎖,電流增大而導(dǎo)致電路無(wú)法正常使用。
若要提升電路Latch-up性能,必須對(duì)端口間的去耦電容采取措施,避免出現(xiàn)Latch-up結(jié)構(gòu)。因此必須從結(jié)構(gòu)上徹底消除發(fā)生閂鎖的可能,對(duì)版圖做了改動(dòng),如圖8所示。具體措施有:
(1)增大端口邏輯與濾波電容的距離;
(2)改變?nèi)ヱ铍娙莸慕Y(jié)構(gòu),采用N-Diff作為電容的一個(gè)極板,摒棄N阱板;
(3)電容與IO之間插入隔離島;
(4)增加端口P+隔離環(huán)寬度。
調(diào)整后的版圖如圖9所示。
根據(jù)失效分析后確定的改版方案,我們對(duì)電路進(jìn)行了改版及重新流片,調(diào)整了去耦電容,目前重新流出的片子經(jīng)過(guò)測(cè)試,端口的抗閂鎖能力得到提升,所有端口都達(dá)到200 mA以上,部分端口可達(dá)到250 mA。經(jīng)實(shí)裝驗(yàn)證和用戶試用,原先的失效現(xiàn)象消除,不再出現(xiàn)異常情況。
圖8 解決方案示意圖
圖9 改版前后照片對(duì)比