第二屆全國磁共振分子成像研究與應(yīng)用高層論壇暨第三屆全國磁共振新技術(shù)應(yīng)用與管理研討會征文通知

由磁共振成像雜志編委會發(fā)起主辦，國藥勵展展覽有限公司、中國生物物理學(xué)會分子成像學(xué)專業(yè)委員會、中華醫(yī)學(xué)會放射學(xué)分會磁共振學(xué)組、中國科學(xué)院深圳先進(jìn)技術(shù)研究院、中國現(xiàn)代診療產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟等單位聯(lián)合主辦的第二屆全國磁共振分子成像研究與應(yīng)用高層論壇暨第三屆全國磁共振新技術(shù)應(yīng)用與管理研討會定于2013年4月中旬在深圳市國際會展中心召開，參會者可獲國家級繼續(xù)醫(yī)學(xué)教育I類學(xué)分。

此次會議在全國著名的醫(yī)療器械展——第69屆中國國際醫(yī)療器械(春季)博覽會期間召開，與會代表可參觀展覽。

磁共振分子影像學(xué)是一個快速發(fā)展的前沿交叉學(xué)科，尚存在許多技術(shù)難點(diǎn)亟待解決。如何有效地將其應(yīng)用到臨床上，常常需要進(jìn)行跨學(xué)科、多角度的交叉與合作。本次學(xué)術(shù)活動宗旨在于建立磁共振分子成像最新技術(shù)和成果交流與應(yīng)用合作平臺，探討磁共振顯微成像(MR MI)的發(fā)展方向。主要形式為講座(主題講座)、交流和討論(主題論壇，研究生論壇)等。大會將誠邀國內(nèi)外知名分子影像學(xué)專家學(xué)者，圍繞磁共振分子影像學(xué)的新理論新技術(shù)研究現(xiàn)狀、未來發(fā)展方向及其重大意義等多方面展開研討和講座?，F(xiàn)征文通知如下。

征文范圍：磁共振分子成像相關(guān)的 DWI、PWI、MRS、SWI等臨床、科研成果，科研項目設(shè)計與申請，科研平臺建立，國內(nèi)外醫(yī)學(xué)影像學(xué)術(shù)期刊投稿、審稿經(jīng)驗(yàn)分享等。稿件要求：稿件內(nèi)容未公開發(fā)表且不涉及保密。稿件可為800字以內(nèi)的摘要(按目的、方法、結(jié)果、結(jié)論四要素撰寫)，也可為帶中英文摘要的論文全文。如需發(fā)言請注明。收稿郵箱：editor@cjmri.cn或cjmri@126.com。投稿時E-m ail主題請注明：“第一作者姓名+C MR MI-2013+題目”。截稿日期：2013年3月31日。稿件處理：經(jīng)審閱合格者在會議匯編刊發(fā)。部分優(yōu)秀論文可推薦至磁共振成像雜志等期刊發(fā)表。

會務(wù)組將向作者郵寄大會正式通知。

(大會組委會)