張蓬鶴,薛 陽,張起豪
(中國電力科學(xué)研究院,北京 100192)
功能豐富的智能電能表是支撐智能電網(wǎng)的重要環(huán)節(jié),多功能的需求對計(jì)量芯片提出了集約化、模塊化的要求。智能電能表在實(shí)際運(yùn)行中的技術(shù)特性主要取決于計(jì)量芯片的特性。計(jì)量芯片屬于混合集成電路,包括數(shù)字模塊和模擬模塊,模擬電路的電源隔離、精度及抗干擾問題決定了計(jì)量芯片的整體性能。
由于環(huán)境的差異將導(dǎo)致智能電能表的計(jì)量不準(zhǔn)確,其根本在于計(jì)量芯片測量的不準(zhǔn)確,實(shí)際使用過程中出現(xiàn)了計(jì)量芯片失效的現(xiàn)象,通過對失效現(xiàn)象的分析和改進(jìn),有助于提高計(jì)量芯片的設(shè)計(jì)和生產(chǎn)工藝[1]。本文通過對計(jì)量芯片進(jìn)行失效分析,提出失效分析的方法及流程,可以幫助設(shè)計(jì)人員找到設(shè)計(jì)上的缺陷、工藝參數(shù)的不匹配或設(shè)計(jì)與操作的不當(dāng)?shù)葐栴},并對企業(yè)生產(chǎn)過程中工藝控制提出建議。
根據(jù)失效率浴盆曲線,芯片失效可分為早起失效、偶然失效和耗損失效。早期失效是浴盆曲線的盆邊,失效率較高,早期失效的失效因素較簡單,有一定的普遍性。不同批次,不同晶體,不同工藝的元器件其早期失效的延續(xù)時(shí)間,失效比例是不同的。嚴(yán)格的工藝操作和工序檢驗(yàn),可以減少這個(gè)階段的失效。給予適當(dāng)?shù)膽?yīng)力,進(jìn)行合理的篩選,可使元器件在正式使用時(shí)早把早期失效的元器件剔除掉,使元器件的失效率達(dá)到或接近偶然失效的較高可靠性水平。浴盆曲線的盆底平坦段是偶然失效階段。此階段失效率低且變化不大,近似為常數(shù),是元器件較好的使用期[2]。偶然失效時(shí)電子元器件中多種不很嚴(yán)格的偶然失效因素發(fā)生的失效。耗損失效時(shí)電子元器件由于老化,磨損,損耗,疲勞等帶有一定全局性的原因造成的失效。此時(shí)元器件進(jìn)入嚴(yán)重的損傷期,失效率隨時(shí)間的延續(xù)而明顯上升。
圖1 失效率浴盆曲線
通過失效分析模式的確定,深入分析失效的機(jī)理,本文提出失效分析的一般方法及流程。
(1)數(shù)據(jù)的收集與分析
在完成現(xiàn)場失效數(shù)據(jù)收集報(bào)告和使用者報(bào)告后,從失效元器件所處的產(chǎn)品的使用環(huán)境,工作條件,及它與產(chǎn)品中其他組件的功能聯(lián)系,較準(zhǔn)確的判斷失效根源所在。
(2)失效現(xiàn)象的觀察和判定
在確定是元器件本身失效問題后,根據(jù)觀察到的現(xiàn)象(包括失效部位,顏色,大小,形狀等)判定失效的可能部位和原因,明確要詳細(xì)分析的目的[3]。
(3)假定失效機(jī)理
由失效現(xiàn)象出發(fā),結(jié)合元器件的基本理論,材料至工藝的特征,基于失效物理和失效分析事例及經(jīng)驗(yàn),對若干失效原因,提出失效機(jī)理的假定。
(4)失效機(jī)理的驗(yàn)證
按照失效分析程序,從外部分析到內(nèi)部分析,同時(shí)進(jìn)行事宜的非破壞性檢測到半破壞性檢測至全破壞性檢測和分析。適用時(shí)還可以進(jìn)行一些理論分析項(xiàng)目:X 射線形貌分析,各種電子和紅外的顯微分析等[4]。因元器件的技術(shù)領(lǐng)域不同有所側(cè)重,可根據(jù)假定的失效機(jī)理采用必要的分析儀器,最終認(rèn)定并驗(yàn)證失效的機(jī)理。
(5)總結(jié)
將結(jié)過匯成失效分析報(bào)告,有可能提出研討的問題及改進(jìn)措施。將報(bào)告寫成事例,一并存入數(shù)據(jù)庫,供信息資源的充分利用。
失效分析系統(tǒng)方法及流程主要分為無損檢測和有損檢測[5]。對于芯片首先進(jìn)行電性能測試,確定大致失效點(diǎn)及初步判斷失效模式;其次進(jìn)行無損檢測,進(jìn)一步判斷失效模式;再次進(jìn)行有損檢測,確定失效模式,并驗(yàn)證假設(shè)失效模式[6]。
選取同一批次生產(chǎn)的兩顆SOP24 計(jì)量芯片,進(jìn)行外觀檢查,確保其外形無磨損,pin 腳完好,分別標(biāo)記為樣品A 和樣品B。將樣品B 進(jìn)行125℃高溫存儲96h,試驗(yàn)后對兩者進(jìn)行采樣通道試驗(yàn),發(fā)現(xiàn)采樣數(shù)據(jù)有差異,初步判斷樣品B 在高溫存儲試驗(yàn)后出現(xiàn)功能失效現(xiàn)象[7]。
AVdd-AGND pin 腳在施加正向電壓時(shí),樣品A 和樣品B 電流偏差較大,而DVdd-DGND pin 腳在施加正向、反向電壓,樣品A 和樣品B 的電流基本重合[8]。進(jìn)一步判定失效點(diǎn)出現(xiàn)于AVdd pin腳,需進(jìn)行無損檢測、有損檢測,通過觀察,確定失效模式[3]。
根據(jù)電性能檢測結(jié)果,對兩個(gè)樣品進(jìn)行SAT 檢測,試驗(yàn)結(jié)果如圖2 所示。GOOD 為樣品A,F(xiàn)AIL 為樣品B,由圖2 可知,樣品B 的AVdd pin 腳處有氣泡,判斷芯片封裝存在缺陷,可導(dǎo)致芯片電性能失效。對兩個(gè)樣品進(jìn)行X-Ray 檢測,未發(fā)現(xiàn)金線斷裂、焊點(diǎn)不牢等缺陷,判斷芯片內(nèi)部無缺陷。將芯片失效模式初步判定為封裝由于存在氣泡導(dǎo)致缺陷。
圖2 SAT 檢測結(jié)果
根據(jù)SAT 檢測結(jié)果,對缺陷部位進(jìn)行開封,以觀察并驗(yàn)證失效模式。對芯片進(jìn)行Polish 檢測,在AVdd pin 腳邊緣發(fā)現(xiàn)氣泡。進(jìn)一步判定失效模式為芯片封裝存在氣泡[9]。利用EMMI 檢測捕捉熱點(diǎn),檢測芯片內(nèi)金線連接是否存在缺陷,。樣品A 盒樣品B的熱點(diǎn)位置一樣,并無明顯差異,因此根據(jù)以上分析,確定芯片失效模式為封裝層內(nèi)存在氣泡導(dǎo)致電性能發(fā)生改變[10]。
圖3 EMMI 檢測結(jié)果
根據(jù)本文失效分析案例,樣品B 在進(jìn)行高溫試驗(yàn)時(shí),可能有水汽進(jìn)入芯片氣泡中,導(dǎo)致芯片出現(xiàn)損傷而漏電,從而對芯片的安全以及計(jì)量的準(zhǔn)確性造成隱患。計(jì)量芯片的工藝決定了芯片的性能,因此建議廠家對工藝條件和參數(shù)提高要求,掌握工藝參數(shù)偏差對產(chǎn)品性能參數(shù)穩(wěn)定性的影響程度,明確每一工藝最佳控制點(diǎn)和允許的偏差范圍。當(dāng)正常運(yùn)行的電能表計(jì)量芯片出現(xiàn)性能偏差時(shí),根據(jù)本文提及的失效分析方法,逐步找到失效模式,并反饋至生產(chǎn)線,以提高產(chǎn)品質(zhì)量,提高電能表質(zhì)量。
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