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    Sol-Gel法制備鈦酸鍶鋇薄膜及其摻雜介電行為

    2012-10-26 08:53:56趙麗麗高永進張智翔翟春雪何崇斌西北大學(xué)信息科學(xué)與技術(shù)學(xué)院陜西西安710127
    中國科技信息 2012年7期
    關(guān)鍵詞:電性能麗麗溶膠

    趙麗麗 高永進 張智翔 翟春雪 何崇斌 西北大學(xué)信息科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,陜西 西安710127

    Sol-Gel法制備鈦酸鍶鋇薄膜及其摻雜介電行為

    趙麗麗 高永進 張智翔 翟春雪 何崇斌 西北大學(xué)信息科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,陜西 西安710127

    采用溶膠-凝膠法制備鈦酸鍶鋇薄膜,經(jīng)XRD測試薄膜的相結(jié)構(gòu),證明薄膜具有一定的擇優(yōu)取向性。性能測試表明,隨Mn摻雜量的增加,薄膜的介電系數(shù)穩(wěn)定地增加,而介電損耗在Mn含量為7.5%時最小。

    溶膠-凝膠法;鈦酸鍶鋇薄膜;摻雜;介電性能

    引言

    由于集成電路集成度快速提高,動態(tài)隨機存儲器必須快速縮小以適應(yīng)其要求,然而器件縮小會致使其漏電流增大,甚至導(dǎo)致器件失效。為了從根本上解決這一問題,需要采用高介電薄膜代替現(xiàn)有的介電層。鈦酸鍶鋇由于其居里溫度可調(diào)、介電性能突出,是人們關(guān)注的焦點之一。

    鈦酸鍶鋇薄膜的制備方法主要包括脈沖激光沉積法[1]、磁控濺射法[2]、溶膠-凝膠法[3~5]等。已有研究表明,摻雜可以顯著改善薄膜的介電性能[3,5]。本文采用溶膠-凝膠法制備鈦酸鍶鋇薄膜,研究薄膜的相結(jié)構(gòu)、微觀形貌及Mn摻雜對薄膜介電性能的影響規(guī)律。

    1 實驗部分

    按鍶:鋇:鈦=1:1:1(物質(zhì)的量比)的比例,稱取醋酸鍶和醋酸鋇,溶于適量的冰醋酸和乙二醇甲醚混合溶液中,攪拌30分鐘,加入幾滴乙酰丙酮,繼續(xù)攪拌30分鐘。然后將混合溶液倒入鈦酸丁酯中,再攪拌45分鐘,得到淺黃色清澈透明的溶膠。溶膠陳化2天后在硅片上甩膠,甩膠層數(shù)分別為9層,每層均經(jīng)過120℃熱處理,最后在700℃(2h)煅燒獲得薄膜。

    薄膜的相結(jié)構(gòu)采用日本Rigaku的D/max-3c型X射線衍射儀測試,微觀結(jié)構(gòu)采用日本Shimadzu的SPM9500J3型原子力顯微鏡進行觀察,并采用LCR DATABRIDGE2018A測試薄膜的介電性能。

    2 結(jié)果與討論

    2.1 鈦酸鍶鋇薄膜的相結(jié)構(gòu)和微觀結(jié)構(gòu)

    采用X射線衍射儀測定薄膜的相結(jié)構(gòu),典型圖譜(Sr0.5Ba0.5TiO3)如圖1所示。圖2是該薄膜的AFM形貌。

    由圖1可見,本實驗制備的鈦酸鍶鋇薄膜為鈣鈦礦結(jié)構(gòu),具有一定的(100)擇優(yōu)取向性,這種取向有利于薄膜良好介電性能的發(fā)揮。圖2是該薄膜的AFM形貌。二維的AFM圖像和三維AFM圖像清晰地表明,實驗制備的薄膜平整、致密,晶粒大小均勻。

    圖1 鈦酸鍶鋇薄膜的典型XRD譜(*代表Sr0.5Ba0.5TiO3)

    圖2 鈦酸鍶鋇薄膜的AFM形貌

    2.2 錳摻雜對薄膜介電性能的影響

    錳作為受主元素可以有效地提高薄膜的介電系數(shù),本實驗研究了錳摻雜量分別為2.5%、5%、7.5%和10%時薄膜的介電性能。圖3是Mn摻雜量與介電性能的關(guān)系圖,其中(a)是Mn摻雜量和介電系數(shù)的關(guān)系,(b)是Mn摻雜量和介電損耗的關(guān)系。

    圖3 Mn的摻雜量與介電系數(shù)(a)和介電損耗(b)的關(guān)系

    由圖3可見,Mn摻雜可以有效地提高薄膜的介電性能,在10KHz和100KHz條件下,薄膜具有更高的介電系數(shù)和更小的介電損耗。隨著Mn摻雜量的提高,薄膜的介電系數(shù)穩(wěn)定的提高,而介電損耗的最小值則出現(xiàn)在7.5%的Mn摻雜量處。在100KHz下,薄膜的介電系數(shù)達到744,介電損耗為0.6%。因此,綜合考慮7.5%是最佳Mn摻雜量。

    3 結(jié)論

    采用溶膠-凝膠法制備了具有(100)擇優(yōu)取向的鈦酸鍶鋇薄膜,AFM顯示薄膜致密、晶粒均勻、表面平整;適量Mn摻雜可以顯著改善薄膜的介電性能,研究顯示,7.5%是最佳Mn摻雜量,此時Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜的介電系數(shù)最大,介電損耗最小。

    [1]Ashok Kumar, Sriraj G. Manavalan. Characterization of barium strontium titanate thin films for tunable microwave and DRAM applications [J]. Surface & Coatings Technology,2005,198:406~413

    [2]Yuanyuan Zhang, Genshui Wang, Ying Chen, et al. Highly Temperature Stable Dielectric Properties of Nanograin Barium Strontium Titanate Thin Films Grown on Silicon Substrate [J]. J. Am. Ceram. Soc.,2009,92(11):2795~2797

    [3]Yun Ye, Tailiang Guo. Dielectric properties of Fe-doped Ba0.65Sr0.35TiO3 thin films fabricated by the sol–gel method [J]. Ceramics International,2009,35:2761~2765

    [4]Sharmistha Lahiry, A. Mansingh. Dielectric properties of sol–gel derived barium strontium titanate thin films [J]. Thin Solid Films,2008,516:1656~1662

    [5]Xiaojing Yang, Xi Yao, Liangying Zhang. The dielectrical properties of (B,Si) doped (Ba,Sr)TiO3 thin films fabricated by sol–gel technique [J]. Ceramics International,2004,30:1763~1765

    趙麗麗,山西臨汾人,副教授,從事新型電子材料與元器件研究。

    10.3969/j.issn.1001-8972.2012.07.022

    陜西省教育廳自然科學(xué)項目(08JK462);陜西省科技廳自然科學(xué)項目(SJ08-ZT04)

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