專利信息

周雅文 提供

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周雅文 提供

干基板清洗裝置

Washing apparatus with dry substrate：韓KR 2010015049[專]/ DOE Co., Ltd., S. Korea;K. C. EnC Co., Ltd. (Kim, Se Ho.)－2010.02. 12－9頁.－KR 2008-75934（20080804）

本專利清洗裝置包含： (1)提供壓縮氣體的鼓風機， (2)鼓風機下面的產(chǎn)生振動單元，用于壓縮空氣提供振動，（3）含噴射嘴的噴射部分， 能噴射壓縮空氣到基板并進一步壓縮空氣以冷卻噴射嘴， (4) 含一組吸入口的吸入部分，有梯度的吸入壓縮空氣和外來物體和（5）一個離子發(fā)生器，其位于吸入口兩邊防止基板產(chǎn)生靜電。與提供的壓力相比，本發(fā)明可以進一步增加壓力和噴射空氣的速度，并在低溫高壓的洗滌條件下獲得壓縮空氣，從而進一步增加洗滌效果。

抑菌洗滌劑配方

Bacteria control detergent composition：日JP 2011236293[專]/ Arch Chemicals Japan, Inc.(Nakanishi, Mutsumi; Sakata,Kazuhiko)－2011.11.24－7頁.－JP 2010-107425（20100507）

本專利提供抑菌洗滌劑配方，改變洗滌劑顏色不會延長洗手間衛(wèi)生清潔，但是在洗手間里抑菌型洗滌劑可以在細菌控制方面有效果。抑菌洗滌劑配方含香精、一種表面活性劑和一個雙胍型殺菌劑，作為專用洗手間用抑菌洗滌劑含過氧化氫和它的金屬鹽、過氧酸和至少一種過氧酸化合物，并且其基團含金屬螯合劑在配方中作防銹劑使用。

含可水解聚合物和胺羧基螯合劑的提高去污性能的洗滌劑配方

Cleaning composition with improved stain removal

containing hydrolyzable polymers and aminocarboxylate chelants：瑞士WO 2011144699[專]/ Dequest AG (Leonard,Isabelle; Kochowski, Valerie;Bonnechere - Delstanche,Genevieve; Henry, Olivier)－2011.11.24－26頁.－WO2011-EP58154（20110519）

本專利提供一種可提高污垢去除的洗滌劑配方。配方包含一個可水解分散的聚合物和一個或更多個可生物降解的胺羧基螯合劑。

用于清洗電子產(chǎn)品部件的非堿金屬雙子表面活性劑洗滌劑

Alkali metal-free gemini surfactants, detergents containing them, and their use for cleaning of electronic materials or components：日JP 2007262262 [專]/ Sanyo Chemical Industries, Ltd.(Sakurai, Kenichi; Suzuki,Kazumichi.)－2007.10. 11－31頁.－JP 2006-90080（20060329）

本專利技術提供的雙子表面活性劑由鹽形成，其鹽通過酸中和得到，組成為（A）2個或3個疏水基團，2個親水基團，1個連接基團和胺（B）熱量變化（Q）值為10-152千卡/摩爾。此雙子表面活性劑洗滌劑用于電子材料或部件的清洗，例如，液晶面板基板或半導體元件。此洗滌劑也可能包含有機堿、水溶性的有機溶劑和多元醇。因此，液態(tài)的洗滌劑含顯示zeta電位-110 mV的3%的4,7 –雙辛酰基-4,7 –雙氮癸烷基- 1,10 -二磺酸基雙- DBU鹽，有效去除附在硅晶片上的粒子，表面張力達到28達因/厘米。用于清洗液晶面板的無堿玻璃基板，洗滌前后洗滌劑水的接觸角分別為75o和20o。

基板和電子設備的清洗方法和產(chǎn)品

Production method of baseplate washing method and electronic device：日2002164313 [專]/Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (Nagai, Toshihiko.)－2002.06. 07－16頁.－2000-357089（20001124）

本專利提供使用旋轉設備同時盡可能有效除去污垢清洗基板的產(chǎn)品。在線路系統(tǒng)34（已經(jīng)形成基板30）形成隔離膜35后，用抗模模式36在隔離膜上做面對面的干法刻蝕，35變成啤酒孔37。然后低速旋轉打磨基板30，使啤酒孔37墻體表面能供應清潔液到基板30表面后移走反應產(chǎn)物38（38與基板接觸），然后通過交替反復做第2次的旋轉洗滌過程，直到不用提供清洗液再一次高速旋轉基板30。

用水清洗電子設備基板的清洗設備

Apparatus for washing of electronic device substrate by water：日2002079192 [專]/Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. (Sato, Masanari; Hirae,Sadao.)－2002.03. 19－6頁.－2000-272577（20000908）

本專利清洗基板設備由噴嘴噴射液體來提供，本裝置提供液和供氣到噴嘴的管道和液體薄霧和溶解氣體的設備。液體最好是純凈水，氣體是 O3、CO2或 H2，在清洗基板時，純凈水中的氣體要保持足夠高的濃度，例如清洗液晶顯示設備的半導體基板、 玻璃基板。

清洗地板的洗滌劑配方工藝

Process for the manufacture of detergent to clean floors：巴西BR2007005577 [專]/ Da Costa,Cicero Felipe－2011.09.06－6頁.－BR 2007-5577（20071220）

本專利提供清洗地板的洗滌劑配方工藝。本配方含有氯胺 T (N-氯-p-對甲苯磺酰甲基亞硝酰胺鈉)，它能使洗滌劑產(chǎn)品長時間有效地達到較好的洗滌效果。 洗滌劑配方中含有氯胺 T，磺酸，黃色顏料11,608、香精、甲醛、detex nfc 9 - Renex，氫氧化鈉，乙二胺四乙酸二鈉和水。

液體洗滌劑配方

Liquid detergent composition：日JP 2011236397 [專]/Sanyo Chemical Industries,Ltd. (Sakaguchi, Yuyaka;Jinbo, Katsuaki; Yamashita,Seiji.)－2011.11.24－7頁.－JP 2010-129782（20100607）

本液體洗滌劑專利配方具有良好的洗滌能力和起泡性能。此液體洗滌劑含非離子表面活性劑(A)和一種陰離子表面活性劑(B)。在(A)的化學式中， R1是C8-24的烷基或烯基， A1O和A2O分別是乙氧基和氧丙烯基， m+n是0.5-100，并且m和n二者之一哪個也不是0。

去除氧化鐵皮的洗滌劑配方

Detergent composition for scale removal：韓KR 2011125690[專]/ GCH & P, Inc. (Yoo, Yeong Hyo; Kim, Jeom Yong; Park, Seon Gyu.)－2011.11.22－7頁.－KR 2010-45179（20100514）

本專利提供的洗滌劑配方包含硫代硫酸鹽作為主要成份，并至少含一種有機酸，有機酸從以下酸中選擇：抗壞血酸、檸檬酸、己二酸、丁二酸和酒石酸。將氧化鐵皮先用含氯的清潔劑清洗之后，再用此洗滌劑洗滌可除去氧化鐵。 因此，用基于含氯的清潔劑不可能去除的氧化鐵用此洗滌劑可以完全地去除掉。

抽水馬桶的清洗方法

Method for washing toilet bowl：日JP2011219645 [專]/Jpn. Kokai Tokkyo Koho (Takano,Katsuyuki; Kogure, Eiichi;Shizuno, Akihito)－2011.11.04－13頁.－JP 2010-91185（20100412）

本專利提供一個洗滌馬桶方法，包括(1)馬桶洗滌劑，馬桶洗滌劑含14-64% (a) C14-22聚氧乙烯醚， (b)乙醇和水，并且在25℃黏度為50-3000 mPa ? s ；(2)將使用的馬桶洗滌劑打開1分鐘到3 h用以揮發(fā)組分(b)而形成膠凝體，此膠凝比未使用時有更高的黏度； (3)將含組分a和的水噴灑到膠凝上形成洗滌馬桶的洗滌液。

商業(yè)洗碗機用洗滌劑組分

Detergent compositions for business dishwashers：日JP 2011219527 [專]/ Kao Corp.(Suzuki, Nobuyuki; Saito,Shinya; Yoshikawa, Kiyoaki; Ito,Sumitoshi.)－2011.11. 04－12頁.－JP2010-86881（20100405）

本專利提供商業(yè)洗碗機用洗滌劑組分，含 (a)≥1含量的硅酸鹽或碳酸鹽 (b) 有機酸堿性金屬鹽， (c) (C1)聚(丙烯酸) (鹽)和(C2)順丁烯二酸共聚物(鹽)，C1/C2比率為98/2-55/45，(d)氯型漂白劑組分，可選擇 (e)非離子表面活性劑和可選擇(f)≥1的硫酸鹽或硝酸鹽。 洗滌劑能防止食物或飲料上顏色使盤子造成的褪色問題。 因此，洗滌劑組分含硅酸鈉、碳酸鈉、碳酸鉀、檸檬酸鹽、Sokalan PA 25CL [多(丙烯酸) Na鹽]，丙烯酸-蘋果酸共聚鈉鹽、二異氯異氰酸酯鈉鹽、Pluronic RPE 2520 (乙烯氧化物丙烯氧化物嵌段共聚物)和硫酸鈉。此洗滌劑對有效去除蛋黃污垢達到90%和對去除茶污垢顯示了良好的洗滌效率。

清洗半導體芯片檢測器的洗滌方法

Method for washing monitoring bare wafer of semiconductor device：韓KR 2008043591 [專]/ Hynix Semiconductor, Inc. (Kim,Dong Ju.)－2008.05. 19－6頁.－KR2006-112326（20061114）

本發(fā)明的洗滌方法包括：（1）用磺酸及雙氧水混合溶液清洗芯片表面，(2) 在芯片表面用蝕刻劑蝕刻化學氧化物膜，（3）用氫氧化銨和雙氧水清洗芯片表面，（4） 用臭氧水洗滌芯片表面除去化學氧化膜、 有機膜和粒子。此洗滌技術不但可以延長監(jiān)測器芯片的壽命，而且可以防止監(jiān)測器芯片被污染，還可以減小監(jiān)測器芯片表面粗糙度。因此，可以提高工作效率。

用于清洗電子產(chǎn)品金屬部件的堿性洗滌劑

Alkali washing solutions for metal parts in manufacture of electronic devices：日JP 2008007620 [專]/ Nagase Chemtex Corp., Japan; Yushiro Chemical Industry Co., Ltd.(Yasue, Hidekuni; Nishijima,Yoshitaka; Sakate, Koji; Takao,Masanori.)－2008.01. 17－10頁.－JP 2006-179191（20060629）

溶液包括H2O、 堿劑、 水溶性有機溶劑和硅烷 XnYmSi (OR) 4-n-m (n，m = 0-3； n + m = 0-3 ；X = 氨基，環(huán)氧基， SH，CO2H，OH,烴基包括C=C不飽和鍵，Y，R = 烷基 C1-4）。溶液對于去除聚酰亞胺薄膜或金屬零件光致抗蝕劑殘余很有用。因此，使用如下的堿性溶液能完全去除玻璃基板上的聚酰亞胺薄膜，即組成為四乙基硅烷 1%、四甲基氫氧化銨2%、三乙醇胺 41%、二甲基亞砜 50%和水 6%。在70℃將鋁板浸在此溶液中24小時進行測試實驗，結果顯示重量減少0.2 %而沒有氫氣產(chǎn)生。

清洗大面積基板的干洗設備和方法

Apparatus with dry cleaning module and method for washing large-area substrate：韓KR 764036 [專]/ KC Tech Co.,Ltd. (Kim, Jeong Ha.)－2007.10.05－10頁.－KR 2006-18441（20060224）

本專利裝置包含一個通過真空吸附的基板夾盤，一個基板支撐，此支撐用于從基板底下裝載/卸載基板，和一個常壓下等離子體處理去除基板表面有機物，利用超聲振動分解并去除粒子的干洗設備，一個輸送機用于輸送干洗設備。干洗設備含有三部分，一是常壓等離子處理單元用于除去粘附在基板上的有機物粒子，二是一個壓縮空氣單元通過噴嘴噴射高壓氣體到基板上減少粒子與基板的粘附力，三是超聲波產(chǎn)生單元，利用抽真空單元除去基板上分離的粒子。本專利技術包括以下幾個步驟：（1）噴射常壓等離子體到大面積的基板上除去有機物。（2）擺動基板分離粒子和（3）通過真空單元除去分離的粒子。該方法改善了洗滌效果。

含枯草桿菌蛋白酶GG36變體的自動洗碗機洗滌劑

Automatic dishwashing detergents containing Bacillus lentus subtilisin GG36 variant：美WO 2011130076[專]/ The Procter & Gamble Company(Souter, Phillip Frank; Ward, Glenn Steven)－2011.10.20－44頁.－WO2011-US31378（20110406）

本發(fā)明提供一種含枯草桿菌蛋白酶GG36變體的自動洗碗機洗滌劑組份及制造和使用方法。 該洗滌劑配方含改進的蛋白酶、淀粉酶或脂肪酶。蛋白酶包括枯草桿菌蛋白酶GG36變體PX4和PX5。自動洗碗機洗滌劑提供改進的清潔和精整效果并且防止沙粒形成。在低溫下它也能提供優(yōu)良清潔和精整效果，并且在能量和原料方面考慮是環(huán)境友好的產(chǎn)品。

使用低濃度的臭氧水清洗電子材料的方法

Washing method of electronic material using low-concentration ozone water：日2002231677[專]/ Kurita Water Industries, Ltd.(Ida, Junichi; Morita, Hiroshi.)－2002.08. 16－7頁.－2001-23515（20010131）

本專利提供的用濃度5-50 mg/L的臭氧水清洗電子材料的方法具有有效的特點。清洗條件滿足c+t≥45，c=臭氧的濃度(mg/L)，t=溫度（℃）。在30℃中使用15mg/L的臭氧水可以有效的去除硅晶片上的指紋。

干燥的非接觸式懸浮裝置清洗電子其產(chǎn)品組件

Washing of electronic component component or dry noncontact type levitation device：日JP2002273355 [專]/NAME NOT TRANSLATED(Yamaguchi, Kiyohisa; Kono,Kenji.)－2002.09. 24－5頁.－JP2001-123614（20010315）

半導體集成線路板和芯片是電子基本組件，液晶玻璃基板和其它控制板等顯露在外面的部件，它們這些組件的洗滌采用干燥的非接觸式懸浮裝置。電子組件的液體洗滌或干燥的非接觸式懸浮設備使用多孔玻璃基板1，其密封由密封套4來完成，密封套4由多孔玻璃基板形成組成側截面用于安全地沖洗外可能在表面進行非接觸干燥。