柳建新,鄧小康,郭榮文,劉海飛,童孝忠,柳 卓
(1. 中南大學(xué) 有色金屬成礦預(yù)測教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,長沙 410083;2. 中南大學(xué) 地球科學(xué)與信息物理學(xué)院,長沙 410083)
隨著我國經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,隧道工程和礦井開采的挖掘深度不斷增加,挖掘過程中坑道承擔(dān)的水壓也越來越大??拥乐兴疄?zāi)事故不斷發(fā)生,輕則造成經(jīng)濟(jì)損失,重則造成重大的人員傷亡事故。所以,在坑道掘進(jìn)工作面進(jìn)行超前預(yù)測預(yù)報(bào)成為目前重點(diǎn)研究的課題之一,近年來有關(guān)這方面的研究成果取得了一些進(jìn)展[1?3]。目前,國內(nèi)有許多超前預(yù)報(bào)的方法,從專業(yè)技術(shù)方面可分為常規(guī)地質(zhì)法和物探法兩大類。常規(guī)地質(zhì)法主要包括超前導(dǎo)坑、正洞地質(zhì)素描和水平超前探孔,但在運(yùn)用鉆探方法進(jìn)行超前探測時(shí),由于設(shè)備笨重、工期長、效率低,可能造成人為的突水通道,形成新的不安全因素,帶來次生危害。物探法主要包括彈性波反射法、聲波測試法、紅外探水法和電阻率法[4?7],其中,直流電阻率法投入少、效率高、可以測量工作面前方含水介質(zhì)的視電阻率,對(duì)分析前方水文地質(zhì)狀況比較有效[8?10]。在實(shí)際施工過程中,坑道中機(jī)電設(shè)備在測量過程中很難撤出,對(duì)測量結(jié)果會(huì)產(chǎn)生干擾,所以采用正確的方法,避免各種因素對(duì)超前探測距離的影響,保證超前探測距離的準(zhǔn)確性,為坑道防治水工作提供可靠的依據(jù)是本研究重點(diǎn)探討的問題。
本文作者運(yùn)用直流聚焦超前探測法[11?12]對(duì)坑道中確定超前探測距離的影響因素進(jìn)行研究,采用已成熟的軸對(duì)稱二維有限單元算法和程序?qū)Ω鞣N不同的地電模型進(jìn)行數(shù)值模擬。
直流聚焦超前探測法的工作原理如圖 1(a)所示,由工作原理圖可以看出,在掘進(jìn)工作面上設(shè)置的環(huán)狀屏蔽電極環(huán)A形成屏蔽電場,使供電電極A0產(chǎn)生的電流呈放射狀向隧道縱深傳播得更遠(yuǎn),觀測掘進(jìn)面上測量電極環(huán)M的電位隨掘進(jìn)深度的變化情況;B電極作為接地電極置于“無窮遠(yuǎn)”處。電極布置方式如圖1(b)所示,命名為 A?M?A0裝置,在 A?M?A0裝置中,掘進(jìn)面的中心設(shè)置一供電電極A0,測量電極環(huán)M和屏蔽電極環(huán)A也分別對(duì)稱地分布在供電電極A0的四周。
圖1 聚焦探測方法示意圖(a)及A?M?A0裝置(b)Fig. 1 Focus detection method sketch map (a) and A?M?A0 array (b)
在數(shù)值模擬過程中,為消除場源奇異性的影響,采用異常電位有限單元法,以提高近場源處電位的計(jì)算精度。假定坑道是水平且圓柱狀的、掌子面呈圓形,地下介質(zhì)、供電和測量電極是關(guān)于坑道軸對(duì)稱的。
地下點(diǎn)源所產(chǎn)生的總場電位v、正常電位u0和異常電位u三者的關(guān)系如下:
在柱坐標(biāo)系中,展開式(1),得
對(duì)于二維軸對(duì)稱電性介質(zhì)構(gòu)造,由于電位是軸對(duì)稱的,則 ? u?φ=0,式(3)可變?yōu)?/p>
簡記為
當(dāng)場源和介質(zhì)都對(duì)稱時(shí),式(5)就是電位在柱坐標(biāo)系下滿足的微分方程。但要得到偏微分方程的定解,還必須給定所涉及問題的邊界條件。
選取足夠大的矩形區(qū)域,如圖2所示,Γs表示介質(zhì)與空氣的接觸面af、ab和bc及坑道軸cd;?!薇硎緹o窮遠(yuǎn)邊界de和ef;?表示abcdef所包圍的區(qū)域。圖中 abcb′a′為坑道空腔,地下介質(zhì)關(guān)于坑道軸 cd對(duì)稱,即區(qū)域?與?′是以cd軸對(duì)稱的。由于地面線和坑道軸上電流強(qiáng)度的法向分量為零,因而異常電位 u在接觸面af、ab和bc及坑道軸cd上外法向分量導(dǎo)數(shù)為零。即
假設(shè)在無窮遠(yuǎn)邊界de和ef上任一點(diǎn)P處電位滿足于是有
圖2 區(qū)域剖分(a)及單元編號(hào)(b)示意圖Fig. 2 Schematic diagram of division of region ? (a) and element number (b)
點(diǎn)電源穩(wěn)定電流場的電位v的微分方程為[13?14]其中:R為源點(diǎn)到邊界點(diǎn)的矢徑;θ是邊界外法線方向n和R的夾角。則
式中:σ0為電源所處介質(zhì)的電導(dǎo)率;σ表示介質(zhì)的電導(dǎo)率;σ′表示異常電導(dǎo)率:σ=σ′+σ0。在柱坐標(biāo)系下二維地電斷面異常電位滿足的邊值問題為
與上述邊值問題等價(jià)的變分問題為
選用矩形為網(wǎng)格剖分單元,電位雙線性插值,電導(dǎo)率分塊均勻。有限單元法詳細(xì)計(jì)算見文獻(xiàn)[15]。
確定隧道前方是否存在含水層和含水層到掘進(jìn)面的距離是直流聚焦超前探測法研究的主要內(nèi)容之一。在實(shí)際工作中,電阻率測量允許4%~5%的相對(duì)均方誤差;依據(jù)誤差理論可知,只有異常幅度大于3倍電阻率相對(duì)均方誤差時(shí)該異常才可靠,即大于12%的視電阻率異常才能判定為地下異常體的反映[16]。影響聚焦法超前探測距離的主要因素有含水層的大小、異常電阻率比值μ21(μ21=ρ2/ρ1) (ρ1和ρ2分別為含水層與圍巖的電阻率值)、測量電極距、坑道旁側(cè)異常體和掘進(jìn)面后方坑道中的金屬管道。
在含水層和坑道體積不變的條件下,研究異常電阻率比值 μ21變化對(duì)聚焦法超前探測距離的影響,具體模型參數(shù)如圖 3(a)所示。采用 A?M?A0裝置進(jìn)行觀測,極距A0A=5 m,A0M=3 m,d表示坑道掘進(jìn)的尺度,V/V0表示歸一化電位值;分別模擬了異常電阻率比值μ21為50、100、200和400時(shí)的異常曲線,如圖3(b)所示。由圖3(b)可知,當(dāng)各條電阻率異常曲線幅值位于臨界值12%時(shí)超前探測距離最大相差1 m。這說明異常電阻率比值 μ21變化對(duì)聚焦法超前探測距離的影響也不大。
圖 3 異常電阻率比值 μ21對(duì)探測距離的影響: (a) 坑道模型;(b) 異常曲線圖Fig. 3 Influence of ratio of anomalous resistivity on detection distance: (a) Tunnel model; (b) Anomalous curve
采用 A?M?A0觀測裝置對(duì)圖 4(a)所示電模型進(jìn)行模擬,分析不同供電電極距對(duì)聚焦法超前探測距離的影響。圖4(b)所示為不同測量電極距的模擬結(jié)果,其中供電電極距A0A固定為5 m,測量電極距 A0M從1 m增加到4 m,每次增加1 m。從圖4可以看出,當(dāng)各條電阻率異常曲線幅值位于臨界值12%時(shí)超前探測距離最大相差1 m。這說明測量電極距的大小對(duì)聚焦法超前探測距離的影響也不大。
圖4 測量電極距的大小對(duì)探測距離的影響:(a) 坑道模型;(b) 異常曲線圖Fig. 4 Influence of range of potential electrode on detection distance: (a) Tunnel model; (b) Anomalous curve
坑道掘進(jìn)施工中掘進(jìn)面附近常有大型施工機(jī)械,且很難撤出,這對(duì)電阻率類的探測方法影響很大。為了考察隧道內(nèi)金屬機(jī)械對(duì)聚焦法超前探測距離的影響,設(shè)坑道內(nèi)有一金屬圓環(huán),在掘進(jìn)面后方6 m的位置,具體參數(shù)如圖 5(a)所示。采用 A?M?A0裝置進(jìn)行觀測,極距A0A=5 m,A0M=3 m,分別對(duì)掘進(jìn)面后方
坑道內(nèi)存在金屬體和不存在金屬體的地電模型進(jìn)行模擬計(jì)算。從圖5(b)中可以看出,當(dāng)掘進(jìn)面后方坑道內(nèi)存在金屬體和不存在金屬體的情況下,兩者得到的異常曲線變化規(guī)律幾乎一致。說明坑道后方存在金屬體時(shí)對(duì)超前探測距離影響很小。
圖 5 坑道內(nèi)金屬體對(duì)探測距離的影響: (a) 坑道模型;(b) 異常曲線圖Fig. 5 Influence of metal of body in tunnel on detection distance: (a) Tunnel model; (b) Anomalous curve
假定在坑道掘進(jìn)面前方20 m處有一圓環(huán)形旁側(cè)異常體,具體形狀和參數(shù)如圖 6(a)所示。并假設(shè)在掘進(jìn)面正前方20 m處有一個(gè)以坑道軸為圓心的圓柱體含水層與旁側(cè)異常體進(jìn)行對(duì)比,其半徑為2 m,高為2 m。采用A?M?A0裝置進(jìn)行觀測,極距A0A=5 m,A0M=3 m。圖6(b)所示為旁側(cè)異常體到坑道壁的距離h分別為1 m、2 m、3 m和含水層位于坑道正前方時(shí)坑道旁側(cè)異常體對(duì)探測距離的影響。圖6表明,當(dāng)各條電阻率異常曲線幅值位于臨界值12%時(shí)旁側(cè)異常體異常曲線的梯度變化比較小,而位于坑道正前方的含水層引起的異常曲線梯度變化比較大,兩者差別很明顯,可以據(jù)此判斷此時(shí)產(chǎn)生的異常究竟是由旁側(cè)異常體引起的還是由坑道正前方含水層引起的。
圖 6 坑道旁側(cè)異常體對(duì)探測距離的影響: (a) 坑道模型;(b) 異常曲線圖Fig. 6 Influence of side anomalous body in tunnel:(a) Tunnel model; (b) Anomalous curve
圖 7 含水層體積變化對(duì)探測距離的影響: (a) 坑道模型;(b) 異常曲線圖Fig. 7 Influence of volume range of aquifer bed on detection distance: (a) Tunnel model; (b) Anomalous curve
在沒有旁側(cè)異常體影響的情況下,改變含水層圓柱體半徑的大小,觀察含水層體積變化對(duì)聚焦法超前探測距離的影響。模型各種參數(shù)和形狀如圖 7(a)所示。采用A?M?A0裝置進(jìn)行觀測,極距A0A=5 m,A0M=3 m。分別觀測含水層半徑R等于10、20、40和50 m時(shí)異常曲線的變化情況,如圖7(b)所示。從圖7(b)中看出,當(dāng)各條電阻率異常曲線幅值位于臨界值 12%時(shí),R=10 m和20 m時(shí)的超前探測距離為10 m,R=40 m和50 m時(shí)的超前探測距離為12 m。因?yàn)榫蜻M(jìn)面到含水層的距離、測量極距大小和異常電阻率比值對(duì)聚焦法超前探測距離的影響為1 m,所以,可以認(rèn)為聚焦法超前探測的距離為10~11 m。
1) 將歸一化電位曲線上 12%的幅值變化處作為判定前方異常的臨界值,即歸一化電位異常大于12%的幅值變化判定為掌子面前方異常體的反映。在該臨界值條件下,掌子面到含水層的距離、測量極距大小以及異常電阻率比值對(duì)聚焦法超前探測距離的影響不大??拥篮蠓酱嬖诮饘袤w時(shí)對(duì)超前探測距離沒有影響。
2) 坑道正前方目標(biāo)體(含水層)體積變化對(duì)聚焦法超前探測距離的確定影響較大,聚焦法超前探測的有效距離為10~11 m。
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