李占國,尤明慧,劉國軍,李林,李梅,高欣,王曉華
(1.長春理工大學(xué) 高功率半導(dǎo)體激光國家重點(diǎn)實(shí)驗室,長春 130022;2.空軍航空大學(xué) 基礎(chǔ)部,長春 130022)
利用量子密碼實(shí)現(xiàn)保密通信是量子信息科學(xué)中包含的一項重要內(nèi)容[1-15]。它是量子學(xué)和密碼學(xué)相結(jié)合的一門新興科學(xué),量子密碼術(shù)突破了傳統(tǒng)加密方法的瓶頸,以量子狀態(tài)的唯一性作為密鑰,可以說是絕對“安全”的。西方國家的目標(biāo)是在近5年內(nèi)實(shí)現(xiàn)量子密碼實(shí)用化。然而目前遇到的主要困難是如何增加量子密鑰傳輸距離[4]。2004年,Toshiba歐洲研究中心研究人員用光纖量子密碼技術(shù)傳送信息,其傳遞距離長度達(dá)到122公里,這一距離為量子密碼技術(shù)實(shí)用化提供了可能[5,6]。盡管如此,要實(shí)現(xiàn)量子密碼實(shí)用化還有相當(dāng)?shù)木嚯x。量子密鑰是采用單個光子在光纖中傳輸實(shí)現(xiàn)的,然而光纖損耗阻礙著密鑰傳輸距離的提高?,F(xiàn)今所使用的商用光纖在1.3和1.5μm波長處損耗和色散最小,因此解決這一問題需要突破的重要關(guān)鍵技術(shù)之一,研制出高質(zhì)量的1.3和1.5μm波段的InAs量子點(diǎn)單光子源,對量子密碼通信具有重大的現(xiàn)實(shí)意義。
量子點(diǎn)由于強(qiáng)的三維量子限制(3D confinement)作用,具有獨(dú)特的類原子特性,自組織生長的半導(dǎo)體量子點(diǎn)低維結(jié)構(gòu)光電器件將具有更高速、更低功耗、新功能等獨(dú)特優(yōu)越性[11,12](見圖1),是實(shí)現(xiàn)實(shí)用單光子發(fā)射器件最理想的候選材料之一。
圖1 InAs量子點(diǎn)具有三維限制Fig.1 InAs QDs with 3D confinement
早期采用的半導(dǎo)體量子點(diǎn)發(fā)光波長也比較短,在光纖中傳輸?shù)膿p耗比較大,效率也比較低,而且在1.3和1.5μm波段范圍工作的半導(dǎo)體量子點(diǎn)單光子發(fā)射源的研究相對較少。
量子點(diǎn)單光子源發(fā)射的單光子在理想情況下是由單個量子點(diǎn)發(fā)光實(shí)現(xiàn)的,因此能夠有效隔離單個量子點(diǎn)就變得相當(dāng)重要[12]。當(dāng)前,用來制作實(shí)現(xiàn)量子點(diǎn)單光子發(fā)射器件的InAs量子點(diǎn)主要是通過自組織生長方法獲得[11-14],它們在生長表面上隨機(jī)分布并且點(diǎn)密度很高(見圖1),而且分布的隨機(jī)性強(qiáng),可靠性差。目前,最有效的途徑是在圖形襯底上生長量子點(diǎn)(見圖2)。這方法不但使量子點(diǎn)的密度可控,而且它在生長表面上的位置也可控,這就使得隔離單個量子點(diǎn)變得相當(dāng)簡單。
圖2 在圖形襯底上生長位置可控低密度InAs量子點(diǎn)的示意圖Fig.2 Growth position-controllable low-density InAs QD
制備低密度雙層堆錯InAs量子點(diǎn)需要事先生長一層種子量子點(diǎn)層和使用一層薄的GaAs壘層,這在一定程度上增加了量子點(diǎn)和起始生長界面的物理距離。雙層InAs量子點(diǎn)結(jié)構(gòu),即襯底/GaAs(15nm)/InAs(2.4ML)/GaAs(15nm)/InAs(2.4ML)/GaAs(50nm)。
在圖形襯底上生長的量子點(diǎn)用作量子點(diǎn)種子層,生長的雙層InAs量子點(diǎn)。由于有效隧穿的作用,雙層InAs量子點(diǎn)發(fā)光主要來自于頂層量子點(diǎn),因而形成的雙層量子點(diǎn)的頂層量子點(diǎn)就可以被用作高效的發(fā)光點(diǎn),而提高生長量子點(diǎn)的光學(xué)和結(jié)構(gòu)質(zhì)量。
圖3 InAs量子點(diǎn)的AFM圖和TEM圖Fig.3 Image of Atomic force microscopy(AFM)and transmission electron microscopy(TEM)
圖3分別為制備的低密度InAs量子點(diǎn)的AFM圖,在1μm×1μm內(nèi)量子點(diǎn)密度很低,僅有4個量子點(diǎn),同時由于是雙層量子點(diǎn),尺寸比普通的量子點(diǎn)尺寸要大些,In含量也高些,理論上可高達(dá)25%。如圖3。而且,由于頂層量子點(diǎn)的尺寸和所含In組分增大,頂層量子點(diǎn)的發(fā)光波長也會向長波長通訊波段移動,圖4為實(shí)驗制備的雙層InAs量子點(diǎn),波長約為1.4μm。
圖4 雙層InAs量子點(diǎn)的PL圖Fig.4 Photoluminescence(PL)of InAs BQDs
自組織生長的半導(dǎo)體量子點(diǎn),它具有結(jié)構(gòu)和光學(xué)特性穩(wěn)定性好、輻射復(fù)合效率高、能確實(shí)地產(chǎn)生單光子等特點(diǎn),因此成為實(shí)現(xiàn)實(shí)用單光子發(fā)射器件最理想的候選材料之一。本論文工作中,在圖形襯底上生長的量子點(diǎn)被用作量子點(diǎn)種子層,直接生長位置可控的雙層InAs量子點(diǎn)。因為形成的雙層量子點(diǎn)的頂層量子點(diǎn)的發(fā)光波長也會向長波長移動,實(shí)驗制備的雙層InAs量子點(diǎn),波長約為1.4μm,利用這種生長機(jī)制備的InAs量子點(diǎn)在通訊用波段具有一定的前景。
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