德國SUSS MicroTec與美國Rolith共同研發(fā)用于太陽能發(fā)電的納米光刻技術(shù)

德國SUSS MicroTec公司系一家專注于半導(dǎo)體工業(yè)及相關(guān)市場設(shè)備與技術(shù)方案著名供應(yīng)商，該公司于2010年12月2日宣布與美國Rolith公司簽訂技術(shù)研發(fā)合作與專有許可證協(xié)議，旨在利用由后者研發(fā)的分裂式納米光刻方法制造一種納米結(jié)構(gòu)設(shè)備，用于大面積基材高產(chǎn)出、高生產(chǎn)效益的納米光刻技術(shù)為可再生能源和綠色建筑市場帶來契機。

該技術(shù)采用圓柱形滾動掩模實現(xiàn)近場光學(xué)光刻，目前Rolith公司正在申請相關(guān)專利。利用相移干擾效應(yīng)或等離子強化印刷結(jié)構(gòu)可設(shè)計出次波長技術(shù)解決方案，運用連續(xù)運行模式可實現(xiàn)低投入、高產(chǎn)出。Rolith公司的“滾動掩模”納米結(jié)構(gòu)系統(tǒng)生產(chǎn)成本有望低于2美元/m2。

Rolith公司CEO Boris Kobrin表示，預(yù)計利用該技術(shù)可制造出包括高效3D太陽能電池、光伏建筑一體化、智能玻璃、具有防反射、防眩光、自清洗和防霧等功能的優(yōu)質(zhì)涂層在內(nèi)的新一代產(chǎn)品。

SUSS MicroTec公司CEO Frank Averdung稱，該公司最近納米壓印光刻系統(tǒng)相關(guān)研究成果使其成為在利用微機電系統(tǒng)（Micro Electro Mechanical System，MEMS）和納米技術(shù)實現(xiàn)基材構(gòu)建方面的領(lǐng)先企業(yè)。當(dāng)公司的設(shè)備解決方案與Rolith公司的新型光學(xué)納米光刻技術(shù)相結(jié)合后，通過從根本上改變了既有成本結(jié)構(gòu)，有望將高效納米壓印技術(shù)推向市場。